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微波等离子去胶机

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北京汇德信科技有限公司

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分子束外延系统,脉冲激光沉积系统,电子束光刻/聚焦离子束系统,紫外光刻机,去胶机,宽频介电阻抗谱仪,三维表面形貌仪,纳米压印模板,光刻胶等

  自1999年成立以来,北京汇德信科技有限公司始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨,将上*的纳米科学技术设备引进到国内。我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等科研院所有着紧密的合作,并系统地代理了德国Raith(电子束光刻系统)、Novocontrol(宽频介电阻抗谱仪)、荷兰TSST(脉冲激光沉积系统)等多家*产品。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域。产品已经被国内众多科研院所和大学使用,并得到用户*好评和认可。

 

  作为几十家的国内*代理,汇德信已建立起以客户为中心,为客户解决科研需求的销售团队和专业的技术支持队伍。公司不定期地组织技术人员出国培训,提升技术水平,更好地为客户提供技术解决方案。

 

  我们经过多年的技术积累,并与国内用户、国外厂商紧密合作,共同研发具有独立知识产权的高科技含量的科研仪器。从“代理”产品走向 “研发”产品,迈出了具有重大意义的一步。2014年我们在常州建立了常州雷欧仪器有限公司,致力于开发研制符合国内用户需求的高品质、高性价比的薄膜沉积设备。

 

  我们本着将上*的科技和企业引进到国内的理念,在德国对华经济技术合作中心(IWC)、江苏省政府、德国北威州共同努力下,在江苏省常州市创建了江苏中德创新中心有限公司,中心凭借*理念和掌握大量的德国*和企业资源,重点抓住“中德合作”和“创新”这两个主轴,确保实现:知识转化为技术;实验室走向市场;技术变为产品;科技人才成为创业者。

详细信息

去胶工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否干净*、对样片是否有损伤等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。德国ALPHA PLAMSA拥有多年的去胶经验,致力于给您提供专业的微波等离子去胶机,并提供专业的服务。

台式去胶机       柜式去胶机

  桌面式微波等离子去胶机            立式

 

产品优势:

  • 去胶快速*
  • 对样片无损伤
  • 操作简单安全
  • 设计紧凑美观
  • 产品性价比高

 

产品用途:

  • 高剂量离子注入光刻胶的去除
  • 湿法或干法刻蚀前后的去残胶
  • MEMS中牺牲层的去除
  • 去除化学残余物
  • 清除浮渣工艺

 

SU-8胶的去除:

 

MEMS工艺中经常用到SU8光刻胶,然而SU8非常稳定,其zui致命的缺点就是去胶困难。为了解决SU-8光刻胶的去胶问题,我们向您*德国Alpha Plasma专业的SU-8,该设备采用氟基气体的去胶工艺,利用氟基气体与SU-8胶的化学反应,实现快速去除SU-8功能。同时设备中还集成了温控系统,去胶过程中对衬底温度的控制保证了高深宽比金属结构的完整性,zui终实现高质量MEMS器件的制备。SU-8去胶速率验收指标为1μm/min,实验中可达到几个微米。因此这款专业的SU8去胶机是MEMS去胶工艺的理想选择。

 

更多信息,请查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=400 

 

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