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全自动光刻机
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- 产地类别:国产
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科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。
详细信息
全自动光刻机
全自动光刻机
MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。
MIDAS SYSTEM公司具有专业化的设计团队，以客户需要为己任，生产、供应满足国内外企业、科研院所不断增长的应用需求，并且提供半导体工艺相关的设备需要。
MDA-12SA型曝光机是一款MIDAS公司新开发的产品，代表了下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。
项目 参数
光源能量 紫外曝光光源光强2000～5000W，输出能量可控
光束范围 14.25″× 14.25″
均匀光束范围 13.25″× 13.25″
光束均匀性 ＜3%～5%
365nm输出光束强度 5KW 25～60mW/cm2，2 KW 15～30mW/cm2
400nm输出光束强度 5KW 50～100mW/cm2，2 KW30～50mW/cm2
可调节曝光时间 0.1～999.9s
范围观察 显微镜/CCD相机安装（480～1000倍可变放大,1600倍可选）
电动观察范围移动 显微镜x、y、z电动操作（手柄控制）
电动样品台 样品台x、y、z、Theta电动操作
卡盘移动 大范围。静态对准工具模块进行x、y、z、Theta移动
卡盘水平 楔形误差补偿（楔形位置自动感应，压力传感器，警报）
基片尺寸 直至14″× 14″
掩模板规格 可替换的直至15″× 15″
真空卡盘移动 x、y：10mm；Theta：4×
Z向移动距离 10mm
接触模式 接近式、软接触式、硬接触式、真空接触式（真空接触力可调节）
接近调节 1μm步进可调节程序化控制系统
对准精度 1μm
显示器 17″触屏
气动控制 基片、掩膜、接触、接触调节、卡盘锁、N2、N2调节
分辨率 1μm（真空接触下近紫外）
摆放 防震桌
选件 CCD BSA、DUV、紫外强度计
