Zeta-20台式光学轮廓仪

产品描述

Zeta-20台式光学轮廓仪是非接触式3D表面形貌测量系统。 该系统采用ZDot技术和Multi-Mode (多模式)光学系统，可以对各种不同的样品进行测量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理，以及纳米至毫米级别的台阶高度。

Zeta-20的配置灵活并易于使用，并集合了六种不同的光学量测技术。ZDot测量模式可同时采集高分辨率3D数据和True Color（真彩）无限远焦点图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量、Nomarski干涉对比显微镜和剪切干涉测量。 ZDot或集成宽带反射仪都可以对薄膜厚度进行测量。 Zeta-20也是一种显微镜，可用于样品复检或自动缺陷检测。 Zeta-20通过提供的台阶高度、粗糙度和薄膜厚度的测量以及缺陷检测功能，适用于研发及生产环境。

主要功能

采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光学器件的简单易用的光学轮廓仪，具有广泛的应用

可用于样品复检或缺陷检测的高质量显微镜

ZDot：同时采集高分辨率3D数据和True Color（真彩）无限远焦点图像

ZXI：白光干涉测量技术，适用于z向分辨率高的广域测量

ZIC：干涉对比度，适用于亚纳米级别粗糙度的表面并提供其3D定量数据

ZSI：剪切干涉测量技术提供z向高分辨率图像

ZFT：使用集成宽带反射计测量膜厚度和反射率

AOI：自动光学检测，并对样品上的缺陷进行量化

生产能力：通过测序和图案识别实现全自动测量

主要应用

台阶高度：纳米到毫米级别的3D台阶高度

纹理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波纹度

外形：3D翘曲和形状

应力：2D薄膜应力

薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度

缺陷检测：捕获大于1μm的缺陷

缺陷复检：采用KLARF文件作为导航以测量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

工业应用

太阳能：光伏太阳能电池

半导体和化合物半导体

半导体 WLCSP（晶圆级芯片级封装）

半导体FOWLP（扇出晶圆级封装）

PCB和柔性PCB

MEMS（微机电系统）

医疗设备和微流体设备

数据存储

大学，研究实验室和研究所

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