$item.Name

首页>化工机械设备>传热设备>加热器

日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃

型号
参数
类型:其他 应用领域:化工,文体,能源,电子,冶金
深圳市秋山贸易有限公司

中级会员8年 

代理商

该企业相似产品

ourstex X射线荧光分析仪OURSTEX140

在线询价

日本ourstex在线膜厚分析仪OURSTEX100TA-F

在线询价

ourstex研发用X射线荧光分析仪OURSTEX100FA

在线询价

ourstex混凝土盐害成分分析仪OURSTEX101FA

在线询价

日本ourstex便携式X射线分析仪OURSTEX170

在线询价

日本ourstex手持式X射线荧光光谱仪VoXER

在线询价

日本进口动态粘弹性测试仪

在线询价

日本进口taisei动态粘弹性测试仪

在线询价
食品加工设备、粉体制造设备、电子计测仪器、科学仪器、光电产品、检测仪器等

深圳市秋山贸易有限公司成立于2016年,本公司主要经营机械加工设备,食品加工设备,机电设备,电子能源相关设备,粉体制造设备,电子计测仪器,科学仪器,光电产品,检测仪器等。欢迎新老朋友咨询

 

详细信息

日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃

 

加热,板上/下板,板旋转,RF / DC板偏置

可以根据设备配置自由定制,Depo-Up和Down,定制板支架,板旋转/上/下/上/下,倾斜加热和反向溅射等各种功能都包含在该单元中。
各种加热丝:NiCr,石墨,CCC,Inconel,钨,钼,SiC / PBN / PG涂层,卤素灯和其他10种类型

总览

基板加热阶段需要加热阶段,例如垂直提升机构(基板支架和加热头中的一个或两个),基板旋转,RF / DC基板偏压(反向飞溅RF / DC清洁)和加热部分倾斜。它是具有多种功能的“多合一”组件。我们可以满足对半导体制造设备和各种真空设备(气相沉积设备,溅射,CVD设备)的所有要求。

 
   
       
 

 

基板加热加热器,晶片加热,加热台,晶片退火2寸热舞台_800C

 

   

 

基板加热加热器,晶片加热,加热台,晶片退火晶圆托盘_提起

 

 
       
   
 

应用/用例

◉半导体制造,薄膜的实验设备,RF / DC反溅射,PECVD,RIE等
◉用热台(800℃说明书→修饰以醉高1600℃)更换现有设备的加热机构
◉新工艺评价机器,样机,等

 
   
 

加热部位规格

◉NiCr加热器
◉Inconel加热器
◉钨加热器
◉钼加热器
◉卤素灯加热器
◉石墨加热器
◉C / C复合加热器
◉各种涂层加热器(PG,PBN,SiC涂层,玻璃碳)

*工作温度和数据均为“陶瓷顶”・请参阅“加热器”。

 
   
   
 

各部分名称


热舞台结构

 日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

类型 其他
应用领域 化工,文体,能源,电子,冶金
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :