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多腔等离子体工艺系统
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经销商深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
多腔等离子体工艺系统:
l 方案是适用于最大 8 吋晶圆的多腔等离子体沉积/刻蚀工艺系统
l 系统可用于研发和小批量生产
l 系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片;不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的开腔破真空
l 多腔等离子体工艺系统包括:一个六端口的转接腔、带机械手
六个端口分别连接:
(1)一个 ALE 刻蚀腔模块:用于 Al2O3, AlGaN, GaN 等的原子层刻蚀
(2)一个ICPECVD 沉积腔模块:用于沉积氧化硅、氮化硅、氮氧硅等介质薄膜 (3)一个低温 ICP-RIE 刻蚀腔模块:配氟基气体,主要用于低温深硅刻
蚀、常温锗刻蚀等
(4)一个 loadlock 预真空室模块:用于单片样品的手动送样
(5)一个真空片盒站模块:用于多片片盒的自动送样
(6)一个端口备用,未来可升级增加 1 个刻蚀或沉积反应腔模块