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GVC-1000 射频磁控溅射镀膜仪
- 型号
- GVC-1000
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离子溅射仪、热蒸发镀碳仪
北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，产品包括：磁控离子溅射仪，高真空磁控离子溅射仪，手套箱镀电极制备镀膜仪，微纳器件制备镀膜仪，高真空镀碳仪。公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在众多高校院所和产业单位得到青睐。
详细信息
GVC-1000射频磁控溅射镀膜仪（全自动离子溅射仪）主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必要的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等！
描述
1、离子溅射仪工作原理：磁控溅射；
2、可选靶材：金，铂，金钯合金，铅，银，铜，铬，锑等；
3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；
4、全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等；
溅射电流自动调整—设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜±5%；
5、无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”：
（1）溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可；
（2）参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长，系统自动计算叠加，无需终止溅射过程；
（3）工作完成自动放气；
（4）样品台高度调节1秒完成；
（5）溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观；
（6）极限真空：小于1Pa；
6、软硬件互锁，防误操作，安全可靠：
（1）真空度高于100Pa，启动真空保护，无法溅射；
（2）溅射电流高于50mA，停止溅射过程；
（3）真空泵工作时，系统无法进行放气操作；
7、GVC-1000射频磁控溅射镀膜仪镀层均匀，导电性良好。
