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科研用紧凑型纳米压印仪(CNI)

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原子层沉积系统,快速退火炉,PECVD,刻蚀机

昱臣半导体技术(香港)有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,昱臣半导体技术(香港)有限公司所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体企业。

昱臣半导体技术(香港)有限公司目前代理的主要产品包括:

- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火炉(RTP);

- 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System);

- 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station);

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- 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD);

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- 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD);

- 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机;

- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler);

- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate);

- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer);

- 高温超导磁体(HTS Magnet),快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer);






详细信息

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以控制压印过程。

纳米压印机特色:

体积小巧,容易存放,桌面型;

轻微复制微米和纳米级结构;

热压印温度高达200

可选的高温模块,适用于250

UV纳米压印,365nm曝光

可选的UV模块,适用于405nm曝光;

真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);

纳米压印压力高达11bar

温度分布均匀、读数精准;

笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,灵活控制,自动记录数据;

直径210mm(圆形)腔室;

腔室高度为20mm

即插即用

使用简单直观

专为研发而设计

提供安装和操作教程视频




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