精密光学平台机械机构、特点、外形设计与“气垫式精密隔振平台”相同，不同之处仅是未加气垫，该型号的平台为广大用户提供了更多的选择机会。通常采用先进的电机和传感器技术，可以提供亚微米级别的平移和旋转控制，使得用户可以在一个高度准确的位置上对样品进行操作。为了达到更高的控制精度，通常结合了先进的反馈系统和精密测量设备，可以实现对物体位置、速度、振动等多个方面的高度保持与控制。在光学试验、显微学以及半导体制造等领域，通常需要将样品或器件放置在一个高度稳定精密控制的平台上进行操作。是一种专用于实现这一目的的精密运动控制装置。
精密光学平台的应用：
显微学：是一个关键的工具，用于显微镜图像获取、分析和处理过程中样本的调整和摆放。
半导体制造：在芯片制造、线宽校准和接触式掩模制作(photolithography)等应用中，都发挥着重要作用，提供高精度的位置和角度控制。
光刻：是用于将纳米或微米尺度部件写入大型平板中的必要工具之一。
太阳能电池：在太阳能电池生产中，被用于设备和材料的对准和精细控制。
精密光学平台的维护保养：
1.保持平台表面干燥、清洁，防止灰尘等附着在上面影响稳定性。
2.平台底部安装防震垫可以抑制震动，增强其精度和稳定性。
3.根据制造商说明，使用适当的润滑剂定期进行润滑，确保运动间隙不会磨损过度。
4.要避免湿度、较高温度和尘土过多的环境以及长时间不使用的情况下应该妥善存放已平衡并固定好的平台。
精密光学平台特点：
高导磁不锈钢面板。
25×25M 6安装螺孔方阵。
蜂窝结构隔振层面、固有频率低、隔震性能好。
中碳钢墙板，刚性好。
主要参数
平面粗糙度不大于0.8μm
平面度不大于0.05mm/m2
规格
1200×800×800mm
1500×1000×800mm
1800×1200×800mm
2400×1200×800mm
其它尺寸可以定做
