紫外线光刻机是印制板制造工艺中的重要设备。传统光刻机的玻璃-迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气,迈拉膜需要经常更换。由于冷却系统过于臃肿,使得其生产成本高、效率低,已不能满足PC B 生产的需要。在实验基础上设计了双玻璃晒架光刻机，改进了其主要组成部分,包括晒架系统、光路系统、冷却系统以及电气和控制系统的整体设计。
该光刻机可广泛用于MEMS和光电子，例如LED生产。它经过**设计，方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的***族材料，包括砷化镓和磷化铟。而且该设备可通过选配升级套件，实现紫外纳米压印光刻。它具有以下亮点：高分辨率掩模对准光刻，特征尺寸优于0.5微米、装配SU**的单视场显微镜或分视场显微镜，实现快速准确对准、针对厚胶工艺进行优化的高分辨光学系统、可选配通用光学器件，在不同波长间进行快速切换等。
采用三柔性支点实现高精度自动调平；真空接触自动曝光；样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制；采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。 
