【化工仪器网 展会报道】2024年10月23日至25日，第十四届中国国际纳米技术产业博览会(以下简称：纳博会)在苏州国际博览中心举办。大会由峰会、展览、大赛、对接会等部分组成，重点聚焦纳米新材料、微纳制造、第三代半导体、纳米压印、纳米大健康、能源与清洁技术、纳米生物技术等产业领域，是我国纳米技术应用产业大规模国际性盛会，同时也是企业、高校及科研单位进行纳米技术产业交流合作的重要平台。
此次纳博会吸引了全球纳米科技领域的优质企业及众多行业内的精英汇聚一堂，共襄盛举。青岛天仁微纳科技有限责任公司(以下简称：天仁微纳)作为参展企业之一，携旗下GL300 Cluster 200/300mm全自动纳米压印光刻生产线、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外纳米压印光刻设备、UniPrinter桌面型纳米压印光刻设备等产品亮相展会。
天仁微纳成立于2015年，是专业的微纳加工设备和解决方案提供商。公司自成立以来始终专注于纳米加工领域，核心竞争力是为客户提供纳米压印整体解决方案。目前天仁微纳产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询。凭借自身领先的技术、完善的售后服务和快速的市场应对能力，天仁微纳在纳米压印领域取得了显著的市场地位。
GL300 Cluster 200/300mm全自动纳米压印光刻生产线
天仁微纳此次推出的GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线，它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻全套工艺步骤。产品标配天仁微纳CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度、高深宽比纳米结构复制量产。
设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量，达到最优的生产效率。此外，GL300 Cluster还支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模，全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。
GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外纳米压印光刻设备
GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，产品同样标配天仁微纳CLIV压印技术，可在200mm以下晶圆面积上实现高精度(结构精度优于10纳米)、高深宽比(深宽比优于10：1)纳米结构复制。
GL8 CLIV Gen2支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了纳米压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。
UniPrinter桌面型纳米压印光刻设备
UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。产品可实现4英寸以下晶圆面积上高精度、高深宽比纳米结构压印，适合用作紫外纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。设备内自动复制柔性复合工作模具，自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预。同时设备还沿用了天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在该设备上开发的工艺可以无障碍转移到天仁微纳量产设备上进行生产。
纳米压印技术已经发展了二十余年，随着技术的不断进步和成本的降低，纳米压印技术逐渐受到市场的关注，并在越来越多领域得到应用。由于纳米压印技术的加工过程不使用可见光或紫外光加工图案，而是使用机械手段进行图案转移，这种方法能达到很高的分辨率，并且模板可以反复使用，大大降低了加工成本、缩短了加工时间，因此纳米压印技术被认为是一种有望代替现有光刻技术的加工手段。
天仁微纳作为国内较早涉足纳米压印技术领域技术及产品开发的企业，正用产品引领着纳米压印技术的国产崛起。展会期间我们看到了众多客户来到天仁微纳的展位进行交流，其中不乏国际友人，这也足以见的天仁微纳的实力。
纳米压印技术的发展正需要天仁微纳这样执着于技术的企业来推动。相信在不久的将来，天仁微纳会推出更多精度更高、功能更全面的纳米压印光刻设备，而这些设备也将进一步打开光刻技术的发展前景，为纳米产业发展做出新的贡献。
作者：小王
进入企业商铺
