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上市时间：2021/1/1 0:00:00

创新点：该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。

1. 主要用途：

该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD），连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统

能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉

料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料腔体选用石

英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。

2.结构与原理图：

                                             结构图

设备组成：加热系统，Plasma系统，进料系统，出料系统，气体控制系统，低真空系统，气料分离系统，过滤系统，炉管转动系统，电控操作系统。

（1）加热系统：

该加热系统的加热腔体采用氧化铝纤维制品，其极低的热导率和比热容，保证了炉膛的快速升温和低蓄热，特别适合于科研单位的材料工艺研

究。加热元件选用电阻丝加热，适合中低温度加热系统。

高温真空电阻炉温度控制系统采用经典的闭环负反馈控制系统，控温仪表选用智能型程序温度调节仪表控温，电力调制器控制；负载采用小电

压大电流控制，从而大大提高了发热元件的寿命，测温元件采用K型热偶。采用单回路温控仪能够自整定PID 参数，无须操作人员的干预，可

自行根据不同温度曲线的升、降温要求调整输出信号，同时系统设置了超温、欠温、断偶报警保护功能，大大降低了对操作人员经验的要求。

（2）Plasma系统：

本系统借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，通过反应气态放电，有效利用了非平衡等离子体的反应特征，从根

本上改变了反应体系的能量供给方式。

（3）进料系统：

送料系统速度连续可调，停止送料且炉体倾斜大时，物料不会从送料系统外漏，送料系统方便拆卸，拆卸后可手动加料，设备可正常运行。

（4）出料系统：

出料系统在炉体倾斜出料时可自动出料。

（5）气体控制系统：

该控气系统是可以控制两种气体按照不同流量进行混合配比的，也可以独立控制，质量流量计安装于密封的可移动的机柜内，由超洁双抛不锈

钢管与精密双卡套接头连接组成。

（6）低真空系统：

该系统配备真空机械泵，可以抽真空，可以让设备在真空环境下进行反应。

（7）气料分离系统：

该系统可以让设备在充气体保护或者抽真空时，实现气体与物料的分离。

（8）过滤系统：

该系统可防止物料进入真空泵，保证真空泵的正常运行。

（9）炉管转动系统：

炉管转动系统可以让炉管360°匀速转动，转速在0-60r/min连续可调，且能在60r/min转速下长时间运行。

3.技术指标：

（1）该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；

（2）整个炉子和送料、收料系统能够一起倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间可调；

（3）送料系统送料速度连续可调，停止送料且炉体大倾斜时，物料不从送料系统外漏。送料系统方便拆卸，拆卸之后可以手动加料，设备可

正常运行。

（4）炉管回转稳定，不会上下左右跳动；转速在0~60r/min连续可调，能在60r/min转速下连续*运转(>24h)。

（5）炉子转速，加料速度，倾斜角度，真空度，气体流量，温度，运行时间，等离子体功率等参数都用数字显示，并在运行过程记录设备整个

运行轨迹及上述参数（在工控及独立电脑上均能实现）；

（6）设备运行可分为手动模式与自动模式；自动模式下可实现高度自动化运行，所有参数程序设定好后自动运行：可实现按照设定程序连续工

作，可设置多工作段不同参数，并可进行某工作段循环工作及某程序循环工作；