痕量分析用纯化取水终端 Genie De-ion
新品介绍
上市时间:2022/1/25 0:00:00
创新点:1. 专为电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、石墨炉原子吸收(GF-AAS)等各种痕量/ 超痕量元素分析技术定制,满足严苛的用水要求,为掌控“微水质”助力。
2. 装有 ICP 型超纯化柱,对超纯水进行深度纯化进一步去除痕量离子,提供超低元素水平的分析级超纯水,离子含量低至ppt 甚至亚ppt 水平。
3. 布局灵活,安装便利,可在超净台中使用。
4. 整体光滑平整无缝设计,防止微生物生长,防止积尘,方便清洁。
5. 生物惰性而且低溶出的有机材料,不含金属,减少潜在的污染。
产品简介
详细信息
痕量和超痕量分析在科研、工业和检测等各个领域发挥着越来越重要的作用,这些*灵敏度的分析技术对分析过程中的污染风险零容忍。纯水在其中,参与清洗部件、冷却、标准曲线绘制、样品制备等诸多环节。水的纯度,必须满足严苛的要求。
痕量分析用纯化取水终端 Genie De-ion是乐枫专门设计,与Genie G 或Genie PURIST 智能超纯水系统配合使用的纯化、取水终端,提供超低元素水平的分析级超纯水,离子含量低至ppt 甚至亚ppt 水平,使用者可通过Genie 主控屏、终端触摸屏或脚踏开关控制取水。Genie De-ion 适用于电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、石墨炉原子吸收(GF-AAS)等各种痕量/ 超痕量元素分析技术。
痕量分析用纯化取水终端 Genie De-ion优势特点:
● 装有 ICP 型超纯化柱,对超纯水进行深度纯化进一步去除痕量离子,持续提供ppt 或亚ppt 离子水平的超纯水。
· 优化水路设计,提高过水量,水质稳定。
· 柱体耐压强,接口双重密封,漏水风险低。
· 带智能识别码(RFID),智能化管理,工作状态实时监控,随时追溯水质历史数据、使用参数等。
· 安装更换简单,可以单手操作。
● 终端自带彩色触摸屏
· 2.4 英寸,实时显示水质/ 流速等常用信息。
· 可戴手套和带水操作。
· 设置手动或定量取水,调节流速。
● 布局灵活,安装便利,节省实验室空间
典型应用 · ICP-MS 分析 · 石墨炉原子吸收光谱分析 · 痕量和超痕量元素分析 · 关键仪器清洗等 | 应用领域/ 行业 · 电子、芯片、半导体 · 食品、农业、药品、医学 · 环保、地质 · 核工业、能源、法医、 · 化学化工等 |
性能指标
超纯水技术指标 | |
取水流速 | 0 - 1.5 L/min |
电阻率 ( @ 25℃ ) | 18.2 MΩ·cm |
TOC | < 5 ppb |
尺寸及重量 | |
宽 × 深 ×高 | 21 cm × 29 cm × 53 cm |
重量 | 21 kg |