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DE600 SPUTTER 北京光电实验室DE600 Sputter 磁控溅射系统

型号
DE600 SPUTTER
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Sputter 薄膜沉积系统

E-Beam 蒸发薄膜沉积系统

Thermal 蒸发薄膜沉积系统

PLD 镀膜系统

OLED 薄膜沉积系统

ALD 薄膜沉积系统

Sputter Sources 磁控溅射阴极

DC/RF Power Supply 直流/射频电源

E-Beam Sources 电子束蒸发源

Thermal EVP Sources 热蒸发源

Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料

Sample Manipulator 样品台

Feedthroughs 电子穿导器件

Vacuum Valves 真空阀门

Vacuum Components 真空配件


德仪科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备,以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料、阀门、真空计和流量计、真空密封穿导件等各种真空部件。十几年来,凭着的品质,*的技术和周到的技术服务,德仪公司的产品为中国的高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持!


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 Sputter 磁控溅射薄膜沉积系统

                  E-Beam 
电子束蒸发薄膜沉积系统 

                  Thermal 
热阻蒸发薄膜沉积系统

                  PLD 
脉冲激光镀膜系统 

                  Sputter Sources 
磁控溅射阴极

                  DC/RF Power Supply 
直流/射频电源

                  E-Beam Sources 
电子束蒸发源 

                  Thermal EVP Sources 
热蒸发源

                  Deposition Materials 
溅射靶材和蒸发镀膜材料

                  Sample Manipulator 
样品台 

                  Feedthroughs 
电子穿导器件

                  Vacuum Valves 
真空阀门 

                  Vacuum Components 
真空配件 



详细信息

  • LOAD LOCK预真空进样室(可选)
  • 前开门溅射腔体
  • 冷凝泵和干泵
  • 多达6个磁控溅射源
  • 直流、射频或脉冲电源
  • 朝上或朝下溅射
  • zui大8”基片
  • 基片旋转
  • 基片偏压(可选)
  • 基片加热1000度(可选)
  • 基片冷却(可选)
  • 多达四路工艺气体
  • PID溅射压力控制
  • 系统手动或自动控制
  • 良好的薄膜均匀性和重复性
  • 可沉积金属、半导体和绝缘材料

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