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P-10台式等离子蚀刻 台式等离子蚀刻系统
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产品介绍:P-10台式等离子蚀刻系统 / 紧凑型等离子体刻蚀机
配备真空泵的P-10是一款成套台式等离子蚀刻系统,因其可靠的设计、较低的价位,使其成为满足中小企业、医学实验室和研发机构的一款紧凑型等离子蚀刻设备。
P-10具有三个*的等离子工作模式:
1)反应离子蚀刻(RIE),
2)普通的等离子清洗(Plasma Cleaning)和等离子体刻蚀(Plasma Etching)
3)P-10具有多功能等离子工艺配置,一台具备各向异性(anisotropic)和各向同性(isotropic )等离子刻蚀处理的系统。 并且配有可拆卸的托盘设置。
P-10 纵览
全铝合金材质真空舱可以容纳超过1500平方厘米的处理表面积,及配备三层处理托盘支架。 内置框架采用了简洁的设计,喷涂工业粉末涂层,以保护等离子处理环境免于污染。
当P-10在反应离子蚀刻(RIE)模式下工作时,专门设计的电极用于定向等离子体处理,即起到垂直向下的蚀刻效果。 此种等离子工艺主要是用于蚀刻微孔或清洗化学品无法达到的空间,因为液体的流动往往只限于在这些小的空间。
应用范围包括医疗设备,太阳能电池,印刷电路板(PCB),连接器,MEMS,纳米技术,晶圆级封装,以及许多其他相关的半导体工艺。
P-10特点
采用等离子清洗提高了任何材料表面处理的均匀性,减少或消除不必要且昂贵的化学试剂废物排放。简单易用,直观的触摸屏界面提供等离子操作界面,控制等离子刻蚀的各个方面,确保等离子工艺的重复性。 我们可以提供定制真空舱,电极配置,满足被蚀刻工件或工艺需要的定制平板电极,RIE(反应离子刻蚀)和等离子处理过程的温度控制。
P-10技术规格
P-10配置
真空舱体材质:全铝合金
电极设置:3套规格为 23cm X 41cm 电极,每套电极板间隔7.6cm
射频电源:300瓦@100KHz射频电源;
工艺气体控制:单套 O-50cc质量流量控制器
真空监测系统:皮拉尼真空计0-1托
控制器系统:微处理器系统,配备触摸屏界面
真空泵浦系统:8CFM氧气服务真空泵系统,配备油雾分离器
P-10可选配置:
300瓦@13.56MHz射频电源;
真空舱静电屏蔽
工艺温度控制
定制电极配置
RIE(反应离子刻蚀电极)
真空泵氮或CDA吹洗
P-10规格
P-10:43cm X 71cm X 76cm 净重:70公斤
P-10配套真空泵:15cm X 46cm X 23cm 净重:31公斤
P-10设备外部安装要求
电源:380/3/50 Hz
压缩空气:0.55~0.70 MPa,14升/分钟
工艺气体压力:0.1MPa,
系统环境温度:29摄氏度
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(材料科学部)