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CEM华盛昌DT-156 涂镀层测厚仪
- 型号
- CEM华盛昌DT-156
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详细信息
CEM华盛昌DT-156涂镀层测厚仪
【产品描述】
DT-156涂镀层测厚仪探头可以在电磁感应和涡流两种原理下工作。在自动模式（AUTO）下，两种原理可视测量的基体自动转换，或可通过菜单进行自动模式和非自动模式转换。
CEM华盛昌DT-156【产品特性】
1、可测量涂镀层： 任何磁性物质表面的非磁性涂镀层厚度；任何非磁性金属表面的绝缘涂镀层厚度
2、易于操作的菜单设计
3、连续和单次测量方式
4、直接工作模式和组工作模式
5、可统计并显示：平均值、zui大值、zui小值、标准方差、统计数
6、非常方便的进行一点或两点校准
7、可保存320个测量数据
8、USB传输数据至计算机分析统计
9、实时删除测量数据和组数据
10、高低限报警
11、低电和错误提示可设置的自动关机功能
CEM华盛昌DT-156【技术指标】
传感器探头 | 铁磁性 | 非铁磁性 |
工作原理 | 磁感应 | 涡流 |
测量范围 | 0~1250um | 0~1250um |
| 0~49.21mil | 0~49.21mils |
误差 | 0~850 um (+/- 3%+1um) | 0~850 um(+/- 3%+1.5um) |
(相对当前读数) | 850um~1250um (+/- 5%) | 850um~1250 um (+/- 5%) |
| 0~33.46 mils (+/- 3%+0.039mils) | 0~33.46mils (+/- 3%+0.059mils) |
| 33.46um~49.21mils (+/- 5%) | 33.46um~49.21mils (+/- 5%) |
精度 | 0~50um (0.1um) | 0~50um (0.1um) |
| 50um~850um(1um) | 50um~850um(1um) |
| 850um~1250um(0.01mm) | 850um~1250um(0.01mm) |
| 0~1.968mils (0.001mils) | 0~1.968mils (0.001mils) |
| 1.968mils~33.46mils(0.01mils) | 1.968mils~33.46mils(0.01mils) |
| 33.46mils~49.21mils(0.1mils) | 33.46mils~49.21mils(0.1mils) |
单位换算：
1、mil（PCB或晶片布局的长度单位）：1 mil =千分之一英寸，1mil = 0.0254mm。
2、um有时也做微米（单位）使用，1mm（毫米）=1000um（微米) 1um=1000nm(纳米）。
使用方法
1、工作模式：
1-1.AOTO：探头根据待测物体性质(铁磁性物质或非铁磁性金属)自动转入相应工作模式。如果待测物体是铁镍等磁性金属物质，探头将转入磁感应原理工作模式；如果待测物体时非磁性的金属物质，探头将转入涡流原理工作模式。
1-2.Fe：探头将是磁感应原理工作模式。
1-3.No-Fe：探头将是涡流原理工作模式。
2、直接测量(DIR)：开机默认为此模式。用于快速随意测量。在此模式下，测量数据会临时保存在内存中，可以通过菜单浏览所有已存数据和统计值，但一旦关机、系统掉电或从直接测量模式切换到组工作模式，这些数据将会丢失。此模式下，zui多可统计80个数据，超出的读数将替换zui旧读数并保存更新统计值。
3、组测量(GR01～GR04)：每一组工作模式下，系统可保存zui多80个数据，5个统计值。关机和掉电，所有保存值不会丢失，并且组与组之间相互独立不受影响，需要删除保存的值，可通过菜单操作进行。当测量数据超出80个，数据测量可以继续进行，但是所有数据将不被保存和统计计算。如有需要，可通过菜单删除组数据。
4、读数浏览：通过“Measurement view”菜单项，浏览当前工作组所有测量读数。
5、测量中的统计数据：厚度统计数据可统计80个读数(GR01～GR04总共zui多可存储4*80=320个读数)。此外，在DIR模式除了读数不存储外，其他和GRO模式相同。
NO.：开机以来进行统计的读数个数
AVG：平均值
Sdev：标准方差
MAX：zui大读数
MIN：zui小读数
包装清单
*1使用说明书 *1合格证 *1电池*2硬盒*1彩盒*1 USB连接线缆*1软件CD*1探头*1钢铁基体*1铝块基体*1标准薄片*2
