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PSS nicomp 3000 nicomp 3000激光粒径测定仪
超级会员第12年
生产厂家奥法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于医药行业,耕耘于纳米科学材料,化工,半导体,环境科学,汽车,过滤,涂料,墨水,油品等行业,以的纳米微米检测技术,“粒度分析,专注客户体验”。这已经成为奥法美嘉团队的信条。
借助于20多年的行业积累和技术储备,奥法美嘉将世界上处于技术地位的美国PSS粒度仪公司的激光粒度仪引入到中国市场,秉承着“传授粒度真知”“普及粒度知识”的理念,伴随着纳米知识的普及,伴随着中国经济向制造业的转型,经过短短几年,奥法美嘉科技有限公司作为美国PSS粒度仪公司在中国的代表,从COE的建立运营,到如今覆盖全中国销售网络和售后服务网络,不仅用真诚的态度,而且用务实的知识,获得了广大客户的*好评。
Particle Solutions srl(意大利PSI均质机公司)位于意大利海滨工业城镇拉齐奥地区,毗邻历史的古城罗马,由从事粒度相关领域内的欧洲科学家以及工程师所组成的团队发起创立。公司团队拥有25年粒度检测知识积累,15年仪器工业设计经验,15年高压均质技术经验及应用研究。
通过深入发掘客户需求和应用难点,PSI团队研发出了新型高压微射流均质机,其稳定可控的均质压力及高剪切力了工艺可线性放大且可大产量需求,低噪音的设计理念可大大减缓传统工艺中的高噪音对于操作人员的不利影响,小巧紧凑的机身设计可以*适应从实验室研发到中试及大生产的各种工作场景。自组建以来,团队累积了医药,生物,半导体,新材料等行业的相关应用经验。
现奥法美嘉综合PSS粒度仪和PSI均质机,为中国制造业提供纳米技术领域内从生产研发设备到检测仪器的整套解决方案。
企业文化(Company Philosophy)
“共享 共建 共发展”“求诚 求信 求真知”
现代企业的发展趋势为规范化、化、文明化、个性化。伴随着中国经济的快速发展和腾飞,中国社会的各个层面在发生翻天覆地的变化,“中国制造”的标签也会逐渐演变为“中国创造”。而企业的发展创造依靠的就是人才!人才是一切发展的基石和动力。这反过来对“人才”从素养,知识,认知,理念等各方面提出了新的要求和高度。
奥法美嘉一直秉承“共享 共建 共发展”的用人理念,“求诚 求信 求真知”的做事理念。在寻求高素质人才的同时,更加注重于已入职员工的培养。员工入职从基础的医药行业准入知识开始培训,覆盖知识技能培训,商务技能培训,职业规划到人生规划。公司的目标之一是希望每个人都能成为合格的项目经理,成为一名有理想有追求有素养的职场人,且能够独当一面,实现自己的人生价值!
nicomp 3000激光粒径测定仪
基本概述:
nicomp 3000激光粒径测定仪 是纳米粒径分析仪器,采用现在的动态光散射原理,利用的Nicomp多峰算法可以很的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供的分析技术。 测试范围:0.3 nm – 10μm。
产品介绍:
Nicomp 380 采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布,粒径检测范围 0.3 nm- 10μm。粒度分析复合采用 Gaussian 单峰算法和拥有技术的 Nicomp 多峰算法,对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有*优势,其的解析度及重现性是其他同类产品*的。
工作原理:
动态光散射法(DLS),有时称为准弹性光散射法(QELS),是一种成熟的非侵入技术,可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布,使用技术,粒度可小于1nm。 动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。 悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动,造成散射光光强的波动。 分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度,再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。
仪器参数:
粒径测量范围 | 粒度分析:0.3 nm - 10 μm |
分析方法 | 粒度分析:动态光散射,Gaussian 单峰算法和 NiComp 无约束自由拟合多峰算法 |
pH值范围 | 2 - 12 |
温度范围 | 0℃ - 90 ℃ |
检测角度(可选) | 粒度分析:90°或 多角度(10°- 175°,可选配) |
高浓度样品背散射 | 175°背散射 |
可用溶剂 | 水和绝大多数有机溶剂 |
样品池 | 4 mL(标准,石英玻璃或有机玻璃); 500μL(高透光率微量样品池) |
分析软件 | Windows 运行环境,符合 21 CFR Part 11 规范分析软件 |
电压 | 220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 约26kg(与配置有关) |
应用领域:
· 医药领域:乳剂,注射剂,脂质体,胶体,混悬剂,高分子,病毒,疫苗等;
· 半导体: CMP Slurry,芯片,晶圆加工等;
· 特殊化工品:墨水&喷墨,纳米材料,化工染料,润滑剂,清洗剂等。
其他:过滤产品,清洁度方面,食品饮料,化妆品等