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NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机)
那诺中国有限公司专注于为大中华区域(包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾)的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。
那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备(包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等)。
那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪,包含飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、质子转移反应(PTR)质谱仪、电子轰击电离(EI)质谱仪等。
Plasma Asher等离子去胶机
NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机)产品特点
NPC-3000(M)等离子去胶机应用: