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矩形-圆形-三角形 美国AJA生产型高真空磁控溅射靶
眺望科技专注光电科技、半导体技术以及新能源环保领域系统检测。
眺望科技自2005年成立以来,一直致力于为客户提供高品质产品与服务。目前,眺望科技与多个一直保持着*合作关系,主要包括美国AJA磁控溅射、离子刻蚀、电子束蒸发等PVD设备,美国AYMONT碳化硅晶体生长工艺及设备,美国Digital Matrix*电镀设备,德国SENTECH等离子体工艺设备等,美国Film Sense多波长椭偏仪,德国ATL激光器以及徕卡LEICA光学显微镜等产品。行业应用覆盖半导体、真空镀膜、光电科技以及材料分析等领域,服务范围*。
眺望科技作为**代理商,依托良好的产品平台和专业务实的服务团队,目前在国内北京、上海、成都、重庆等城市分别设立办事处,与国内*科研院和企事业单位也建立了良好的合作关系。我们期待能为您提供更多更专业的行业解决方案。
“脚踏实地、站得更高、看得更远,眺望必将用真诚与您一道共铸辉煌!”
生产型磁控溅射靶(HV)
AJA 公司自1991 年来已经研发了多种磁控溅射靶,包括许多为生产应用定制的大型模型。根据基片几何形状,生产量,腔室装置,靶材材料组成和需求薄膜规格,有很多型号可供选择,矩形,圆形,圆柱形,三角形和旋转磁铁型。
STX 系列圆形磁控溅射靶
STX 系列溅射靶材尺寸从5 英寸到12 英寸不等。这些溅射靶特点是,一个特殊模块化磁铁组合,可适用平衡,非平衡,磁性材料,闭合场,高利用率和高均匀性配置。电源有高压DC,脉冲DC,HIPMS,AC,和RF,特点是直接或间接基板背部水冷。内置或外置都可以。一些溅射靶配置偏转平衡环,可在气压低至0.2 mTorr 时,实现长距离共聚焦沉积。
STXL 系列矩形磁控溅射靶
STXL 溅射靶可配置不同靶材,从75 mm x300 mm 到150 mm x 1 meter 不等。这些溅射靶特点是,一个特使模块化磁铁组合,可适用平衡,非平衡,磁性材料,闭合场,高利用率和高均匀性配置。电源有高压DC,脉冲DC,HIPMS,AC,和RF,特点是直接或间接基板背部水冷。内置或外置都可以。无论泵位置变化,可调节注气结构可优化均匀性。
三角形磁控溅射靶
在圆柱形腔室装置中,基片固定在一个旋转台或三脚架边缘,*的溅射靶形状是三角形。在zui小化流失速率(均匀性挡板造成的)时实现优化均匀性。AJA 还研发出了*的TR5313 同心三角磁控溅射靶。电源是RF或任何DC 形式。完整的隔离气路管道,气体分布系统和QCM 接口可实现优化均匀性和工艺控制。
美国AJA公司中国区总代理-重庆眺望科技有限公司
AJA致力于研发生产薄膜沉积系统,包括磁控溅射系统,电子束蒸发系统,热蒸发系统和离子束刻蚀系统。1989年William Hale在美国马萨诸塞州创立了AJA这个品牌,开始是以物理气相沉积产品供应商问世。随着越来越多的系统和磁控溅射源世界,AJA公司不断突破自己,发现更多创新设计解决方案。其中一些方案一直被模仿,但*。AJA始终保持着薄膜技术领域的前沿地位。