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美国Sutter公司BV-10 微电极抛光(磨针)仪
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代理商微电极抛光(磨针)仪(Microelectrode Beveler)用于打磨拉制好的玻璃微电极*,主要是将*打磨成斜面,使电极更尖,同时使电极开口变大,一方面在进行细胞内记录时有利于电极刺入细胞,一方面在进行细胞内注射时有利于注射物质进入细胞。电阻测量仪可以在打磨完成后对电极电阻进行测量。
美国Sutter公司 BV-10型磨针仪美国
用于细胞内记录,打磨后可降低电极电阻,同时帮助电极刺入细胞(尤其是小细胞)。用于细胞内注射,减小对细胞的损伤,促进注射物质进入细胞
技术参数
根据选择的打磨盘不同,可打磨口径0.1-50μm的玻璃电极
打磨盘无振动,表面有磁力耦合。
大磨盘表面为半波长(250nm)光学平面。
同步钟电动机确保稳定转速。
7磅重的底座增大了振动阻尼。
配有卤素灯。
配有微操纵器,控制打磨的精度与角度。
打磨的差异:小于1.0μm
打磨速度:60RPM
打磨角度:5-90度可调
微操:粗调1.9mm,微调0.01mm
可选配体式显微镜(80x)和电极电阻测量仪
电极电阻测量仪测量范围:0-10,0-100,0-500Ω
有多种型号选择:BV-10-B(打磨仪),BV-10-C(打磨仪与电阻测量仪),BV-10-D(配有显微 镜的打磨仪),BV-10-E(配有显微镜的打磨仪与电阻测 量仪)。