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CMSD2000 发酵液胶体磨

型号
CMSD2000
上海依肯机械设备有限公司

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乳化机,胶体磨,分散机,粉液混合机,纳米乳化机,纳米分散机,纳米研磨机,纳米粉碎机,高速胶体磨

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      公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机(乳化机,高剪切乳化机,管线式乳化机)二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六 研磨机,七湿法粉碎机,九成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的XX供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为x'x工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。

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详细信息

发酵液胶体磨是在发酵过程中,有的将多糖分泌到胞外,形成胞外多糖,有的只留在胞内,形成胞内多糖,对于胞外多糖,可以直接将发酵液经浓缩沉淀而得到. 而对于胞内多糖,在提取前应对菌丝体进行一定程度的预处理,利用细胞破壁技术破坏其细胞壁,使胞内多糖较易从细胞内释放出来.

 

发酵液成分很复杂,包含菌(细胞)体,胞内外代谢产物,及剩余的培养基残分等。

不管人们所需要的产物是胞内还是胞外,都首先要进行培养液的预处理和固液分离开,才能进行后续操作:

对于胞外产物,可先将菌体或其他悬浮杂质去处,才能从澄清的滤液中提取代谢产物。

对于胞外产物,首先富集菌体,再进行细胞破碎和碎片分离,然后提取胞内产物

固液分离方法主要是过滤和离心。

对于细菌及某些放线菌,菌体细小,液体粘度大,不能直接过滤,若用高速离心,能耗很大,设备昂贵。若用膜分离技术(如微滤)易产生膜污染,通量降低。

发酵液中由于菌体自溶,核酸、蛋白质及其它有机粘性物质的存在也会影响固液分离。

发酵液提取多糖  是核酸等等等

发酵液的破壁率 常用细胞破壁技术分为机械法和非机械法两类. 机械法按破碎方法分为靠固体剪切作用进行破碎的珠磨法、压榨法以及靠液体剪切作用进行破碎的高压匀浆法和超声破碎法. 非机械法按破碎方法分为靠溶胞作用进行破碎的酶溶法、化学法和物理法以及利用干燥处理技术进行破碎.

 

发酵液胶体磨

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 

 

 

一、转速和剪切速率:
IKN纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转    
F=23/0.7X1000=32857 S-1  
F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      
国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440 S-1
通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距:
IKN纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。
间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工
国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
三、机械密封:
IKN纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转
国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
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