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徕卡 EM RES102多功能离子减薄仪
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北京悦昌行科技有限公司是以光学显微镜及其他相关仪器的研发与销售为主的科技公司。主营徕卡倒置显微镜,徕卡体视显微镜,徕卡荧光显微镜,徕卡工业显微镜,徕卡金相显微镜,生物显微镜、金相显微镜、偏光显微镜、体视显微镜、数码显微镜、显微镜数码相机照相接口、体视显微镜专用冷光源、数码图像处理系统等产品；公司拥有一支由专业技术人员、营销人员和维修人员组成的强大队伍，竭诚为广大客户提供技术咨询、产品选配、安装调试、应用指导、维护保养在内的服务。公司长期备有现货，可以随时为您提供各种产品选配服务，经过近10年的技术积累与发展，公司在国内显微光学领域已经可以独树一帜。 公司依托北京大学、清华大学、中国农业大学、中科院等科研院所的强大技术实力，特聘多名教授、博士作为我公司技术顾问。
详细信息
徕卡 EM RES102多功能离子减薄仪
使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备高水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。*的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
徕卡 EM RES102多功能离子减薄仪主要优势
*的解决方案
Leica EMRES102是一款*的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调， 以获得离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于 一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，徕卡EM RES102还可 用于低能量极温和的离子束研磨过程。
TEM 样品
• 单面或双面离子束研磨适用于材料的离子束减薄过程。鞍形 场离子源可获得很大的电子束透明薄区。
• 程序化控制的离子入射角度变化，适用于完成特殊的样品制 备目的，例如FIB样品清洁，以减少无定形非晶层。
SEM 或 LM 样品
• 离子束抛光大抛光区域可达25mm。
• 离子束清洁适用于对样品表面污染层或机械抛光后表面产 生的涂抹层进行清洁。
• 样品表面衬度增强作用，可替代化学刻蚀作用。
• 35°斜坡切割用于制备多层样品的截面。
• 90°斜坡切割用于制备复合结构的半导体样品或组装器件， 这种方式所需的机械预加工工作少 。
主要特点
• 一台桌面型设备，集TEM，SEM和LM样品制备功能于一体
• 通过局域网实现对离子研磨过程远程遥控
• 离子束抛光区域很大，可达25mm
• 离子研磨过程参数全电脑控制
