$item.Name

首页>实验室常用设备>萃取设备>其它萃取设备

4008 美国恩科优N&Q系列光刻机4008

型号
4008
上海科布信息技术有限公司

免费会员 

代理商

该企业相似产品

美国恩科优N&Q系列光刻机4006

在线询价
光刻机,匀胶机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,压片机

科布公司是一家富有创新精神的化高科技公司,专业提供等离子清洗系统全套解决方案提供商。作为工业实验室市场领域的,科布从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助客户和合作伙伴取得成功。

详细信息

品牌:恩科优(N&Q

型号:NXQ400-8

产地:美国

美国恩科优N&Q系列光刻机4008

恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统*的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代*的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多*企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的*;

美国恩科优N&Q系列光刻机4008

二、技术参数:

1、芯片尺寸:5mm~200mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);

2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);

3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);

4、分辨率:优于0.5um

5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;

6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

7、支持恒定光强或恒定功率模式;

8、曝光时间:0.1~999.9s

9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)

11、光强均匀性Uniformity

<±1% over 2 区域;

<±2% over 4 区域;

<±3% over 6 区域;

12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm

13、电源:高灵敏度光强可控电源。

可选型号:

NXQ400-6 

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、产品特点:

可选支持单面对准和双面对准设计;

高清晰彩色双CCD镜头采用*的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);

高清彩色双显示屏;

全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;

具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;

操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;

操控手柄调控模式的*设计;

采用LED穿透物镜照明技术,具有*对准亮度;

采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;

抗衍射反射的高效光学光路设计;

带安全保护功能的温度和气流传感器;

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;

设备稳定性,耐用性超高;

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :