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RES102 Leica EM RES102多功能离子减薄仪
- 型号
- RES102
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我们的代理权绝大多数为直接与生产厂家签约代理协议的或一级代理，这意味着我们销售的代理产品将得到生产厂家及我们公司的双重支持与售后服务，我们更库存备有大量的备品备件和现货以服务用户，这意味着在中国这样广大的用户区域内，用户可以就近联系我们，从而更加及时更加充分的享受到更有保障的服务。
详细信息
*的解决方案
Leica EM RES102多功能离子减薄仪是一款*的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得*离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，Leica EM RES102多功能离子减薄仪还可用于低能量极温和的离子束研磨过程。
TEM 样品
› 单面或双面离子束研磨适用于材料的离子束减薄过程。鞍形场离子源可获得很大的电子束透明薄区。
› 程序化控制的离子入射角度变化，适用于完成特殊的样品制备目的，例如FIB样品清洁，以减少无定形非晶层。
SEM 或 LM 样品
› 离子束抛光zui大抛光区域可达25mm。
› 离子束清洁适用于对样品表面污染层或机械抛光后表面产生的涂抹层进行清洁。
› 样品表面衬度增强作用，可替代化学刻蚀作用。
› 35°斜坡切割用于制备多层样品的截面。
› 90°斜坡切割用于制备复合结构的半导体样品或组装器件，这种方式所需的机械预加工工作zui少 。
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