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VibroMet™ 2振动抛光机
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西努光学创建于2003 年，主营工业显微镜及制样设备、镜片测定设备，高速摄像系统、工业内窥镜、机器视觉等工业及科研应用的检测设备及系统集成。
西努光学秉承“以光学为核心，为客户提供解决方案”的经验思路，经过16年的努力，成为众多企业、高校科研单位提供各种专业化的光学系统解决方案。并于2012 年导入SAP 管理系统，通过系统资源整合，为客户提供更优质、快捷的专业化服务。
2016 年，我们积极引进检测设备的同时导入制样等配套设备以丰富我们实验室平台，以更好的为客户提供现场体验，从微米到纳米满足客户从制样到结果分析的一站式体验服务。
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详细信息
VibroMet™ 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，从而得到无应力的制备表面，而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光，可适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）。不同于传统的振动抛光机，VibroMet 2可以产生几乎*水平方向的振动，zui大限度地提高了样品接触抛光布的时间。用户设定好程序后就可以离开，样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。
VibroMet™ 2振动抛光机快速去除样品表面变形层
水平运动温和地抛光样品不引起机械应力
所得样品表面适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）
对混合材料和不均匀样品都能达到*的制备效果
无需使用危险电解液
替换电解抛光仪和危险电解液
结合VibroMet 2 与MasterMet二氧化硅抛光液，MicroCloth 抛光布对样品进行化学-机械抛光
设定后无需过多留心
样品在抛光盘中可自动开始振动抛光
12in [305 mm]直径抛光盘可同时制备多达18个样品
VibroMet™ 2 振动抛光机
• 振动抛光机用于在机械制备后去除剩余的轻微变形，以显现无应力的表面，而不必使用电解抛光所需的危险的电解液
• 将VibroMet™ 2 振动抛光机 和MasterMet™ 2 胶体二氧化硅配合使用，进行化学机械抛光的试样表面可满足电子背散射衍射（EBSD）或原子
力显微镜(AFM) 分析
• 和zui终抛光液配合使用(pg.69-70)
• 磨盘尺寸为12in [305mm]
| Part Number | 电压/频率 |
| 67-1635-160 | 115VAC, 60Hz |
| 67-1635-250 | 220VAC, 50Hz |
