1、技术参数要求

1.1光学系统

1.1.1 窄光束设计，无透镜全反射的光学系统*密封，光学部件采用石英涂层；

1.1.2 全铸铝光学底座，特殊的防震设计，保证仪器的坚固可靠和的稳定性；

1.1.3采用单色器，低杂散光，拓宽线性范围，并降低检出限；

1.1.4波长范围：185～900nm，计算机控制，自动选择波长；

1.1.5波长扫描速度：2000nm/min；

1.1.6自动狭缝切换，0.2、0.5、1.0nm及高低档；

1.1.7 固定8灯座，旋转镜面，自动快速选择元素灯；

1.1.8 火焰和石墨炉部分具有独立的光学平台和检测系统。

1.1.9 能够同时进行火焰和石墨炉测定

1.2雾化及安全系统

1.2.1 雾化系统由氟塑料制成，能够耐强酸和有机溶剂；雾化器溶液提升量可调节；

1.2.2 燃烧头为合金制造，基座附防腐蚀屏蔽膜，耐腐蚀，不发脆； 燃烧头防堵效果好，能适合高盐样品分析；

1.2.3 撞击球：玻璃或耐氢氟酸的撞击球，撞击球前后位置外部可调；

1.2.4 双头扰流器：置于雾化室内，适用于高盐样品的测定，提高测定的准确度和精密度；

1.2.5具有安全联锁监控，保护操作人员的安全；

1.2.6 具有快速分析速度的能力：2分钟内能准确分析样品中10个不同被测元素含量。

1.2.7 具有内标校正功能：确保测定结果更准确；

1.2.8 元素灯能实现同时预热功能。

2、检测器及背景校正

2.1宽范围光电倍增管，可获zui大的信噪比；

2.2 高强度氘灯背景校正，可校正到2.5Abs的背景，响应时间为2ms，准确校正实际背景；带有自动衰减的调节功能；

2.3 5ppm铜吸光度值大于0.9Abs，精密度RSD小于0.5%。

3、石墨炉部分：

3.1 石墨炉系统：石墨炉温度控制准确，石墨炉塞曼磁场多级可调；

3.2 稳定温度区域控制技术：40～3000℃可进行程序升温，zui大升温速度为2000 ℃/s；

3.3 独立的两路内外气保护设计，铜的典型操作次数可达5000次以上；

3.4 石墨炉采用动态温度反馈系统，控温精确；

3.5具有多点曲线拟合法摸拟背景吸收曲线，能够实现更准确描绘出背景信号的真实峰形塞曼背景校正；

3.6 交流横向塞曼扣背景技术；塞曼扣背景响应小于5ms；实时监测背景信号，结果更可靠；

3.7 石墨炉塞曼磁场强度0.1～0.8特斯拉多级可调，计算机控制；

3.8 塞曼背景校正可满足185～900nm全波长范围高达2.5Abs的背景吸收；

3.9  特征质量：Cd 0.2pg；

3.10 仪器内联锁装置：主电源功率、磁场联接、磁场温度；

3.11 外部内联锁装置：石墨炉内、外气气压监控，冷却水压力和温度，石墨管状态。

4、石墨自动进样器:

4.1 自动进样器，能克服自动进样器易产生气泡的问题；

4.2 具有石墨炉彩色摄像系统，实时检测石墨管内状况，并且确定方法中每步骤温度是否合适；

4.3放置50个2ml样品瓶和5个25ml样品瓶；130位可选；

4.4样品进样体积：1-70ul；

4.5可由同一个母液自动配置多达10个浓度的溶液或标准曲线；

4.6可自动添加3种基体改进剂，预进样/后进样或与样品一起进样。具有自动减少超标样品进样体积功能；

4.7可多次进样99次。对于快速分析，可进行“热进样”，进样速度和温度在40～200 ℃范围内编程；

4.8 样品进样重现性：RSD <1%；

4.9 自动进样器能适用于：水、乙醇、甲醇、丙酮等多种溶剂。

5、控制软件：

5.1 能够同时进行火焰和石墨炉测定

5.2 全中文操作软件，采用获奖的“工作表格”概念；提供中文在线帮助系统、维护视频和中文操作手册；

5.3 火焰在线内标校正技术可以校正由于物理干扰、样品制备误差和*使用的仪器漂移等所造成的偏差；

5.4 石墨炉自动优化参数程序；

5.5 石墨炉摄像系统，实时监测石墨管中的情况，及时采用适当的石墨炉条件。

6、*水循环冷却系统

配置：

6.1. 原子吸收光谱仪主机1台（包含火焰部分和石墨炉部分）；

6.2  石墨炉；

6.3  自动进样器；

6.4  空气/乙炔燃烧头；

6.5  区域组件，工具包；

6.6  空心阴极灯，石墨管3包；   

6.7  空气压缩机 1 台；

6.8  *水循环冷却系统 1 台；

6.9 操作系统、计算机及打印机 1 套；

6.10 氩气、乙炔气瓶各一个