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NLD-3000原子层沉积系统
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半导体仪器和电子产品耗材耗材
FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料学博士共同创办的德国公司。基于 “Science is international”的想法，“全球协同实验室”成为三位博士追逐的梦想。
公司愿景是从科学家到科学家，科学开创美好未来。
FIRSTNANO深耕于半导体技术、材料科学、生命科学等科研领域，始终秉承“前沿、专业、科学”的宗旨，将前沿技术引进到协同实验室。我们的产品覆盖了微纳加工制程；材料科学的检测、分析；生命科学成像，脑科学与行为认知等相关领域。作为全球科技前沿的仪器供应商，FIRSTNANO具有全球技术视野、优质供应体系、以及严格的质量管控系统，能为客户提供前沿的技术解决方案。
公司服务的客户领域广泛，其中包括消费电子、航空、航天、医药技术、半导体行业、光电子行业、高校和研究机构。
在成长的过程中，我们脚踏实地、奋勇向前。自2015年香港（中华区）公司成立以来，我们一相继在香港、深圳、上海和武汉设立了分支机构。
我们真诚邀请业内英才加入FIRSTNANO TEAM，一起为梦想扬帆起航！
详细信息
原子层沉积技术
NLD-3000原子层沉积系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NLD-3000原子层沉积系统特点：NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜(如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-3000系统提供12"的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
选配：NLD-3000系统的选配项包含自动L/UL上下载(用于6"基片)，ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)，臭氧发生器，等等。
应用：
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc
Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.
Nano laminates纳米复合材料
