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Bruker TriboLab CMP 化学机械抛光机
- 型号
- 参数
- 产地类别:进口
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冠乾科技Grant Technology 有限公司创立于中国上海。 公司为用户提供先进可靠的设备及、
仪器技术，为客户把握工艺过程，得到优质的结果而服务。
Grant是“授予”的意思，希望公司能够成为一个平台，以用户能够得到上更新更快的技术资讯，技术方案为企业目标。
冠乾科技追求品质产品、专业的应用和完善的售后服务，我们是您可以信赖的合作伙伴。
工艺设备：真空镀膜机；离子束刻蚀机，ICP刻蚀机，等
产品线丰富，元素分析:原子吸收,气相色谱，液相色谱，气质联用，紫外分光光度计等； 热分析：材料表面分析：原子力显微镜，光学轮廓仪，摩擦磨损等； 通用分析：扫描电镜，
实验室仪器
原子吸收光谱仪
近红外光谱仪
紫外分光光度计
电化学工作站
红外光谱仪
镀层测厚仪
数字显微镜
影像测量仪
Wafer 粗糙度检测
3D 轮廓仪
超景深显微镜
TTV 测试
扫描探针显微镜
台式扫描电镜
其他仪器：
四探针测试
离子减薄机
详细信息
产品品牌: 布鲁克 Bruker
产品产地: 德国
应用领域:
产品简介: 化学机械抛光研发规模的工艺研究和材料表征系统
TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。
一、亮点
1）------小规模研发系统中的 ROI
此台式工具可再现全尺寸晶圆抛光工艺条件，而无需在生产设备上停机。
2）灵活------参数控制
允许量身定制的测试，以加快材料开发，并精确优化流程。
3）专家------应用和支持
我们与大型安装基地合作多年，为您的实验室提供专业知识。
二、特点
1）特征------用于 CMP 的小型研发规模专业系统
布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。
* 重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机；
* 提供的测量可重复性和细节检测；
* 允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本。
2）板载诊断系统可以更好地了解抛光过程
* 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数；
* 从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据；
* 通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策。
3）具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置
* 抛光任何平面材料，几乎能使用任何修正盘，任何抛光液，和任何抛光垫；
* 轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆；
* 可同时安装多个样品，测试更灵活。
