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GM2000/04中试型胶体磨

型号
上海思峻机械设备有限公司

中级会员8年 

生产厂家

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乳化机,分散机,均质机,研磨分散机,胶体磨,粉液混合机

上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN先进工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的先进技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。

 

 公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。

 

公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。

 

“业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!

详细信息

GM2000/04中试型胶体磨

实验室胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过实验室胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

GM2000/04中试型胶体磨

我们的磨头的结构:沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
GM2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000/4实验室胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。GM2000/4实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

在一般的情况下,我们的机械密封可以zui大承受16bar压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13bar.

同时机械密封的使用寿命和以下因素有关:

满足以下条件使得机械密封的使用寿命更长:

-可允许的压力比率

-充份的冷却和湿度

-材料的合适搭配.

机械密封本身会产生磨损和破裂.磨损得主要原因是:

-压力差

-温度

-分散物料的腐蚀性

-密封的材料

 

转速:

7890/13789RPM可以通过变频调速通过皮带加速我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小)。

SGN胶体磨结构:

三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构,但是他们的设计不同理念不同,形状及齿列的结构。

SGN胶体磨磨头的结构:

沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

公司另外一项*的创新,就是锥体磨GMO2000系列,它的设计使其功能在原有的GM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,GMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理想。


GM2000/4(LP系列)为实验室胶体磨的技术参数:功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度0-40m/s,电压380V,机器产量为0–700升/小时(水),重量35KG,尺寸(长宽高)(450X250X350)MM,LP使用轴封(PTFE环),在正常的情况下,一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用,一般zui多可以使用连续半个小时,这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块,可以实现多功能多用途,是实验室中试生产的选择。

 

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