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EHMDS HMDS真空烤箱
宁波艾德生仪器有限公司是由原中国台湾WTI外资企业技术骨干创立的一家致力于专业设计开发、生产制造模拟自然环境(高温、低温、湿热、光照)试验仪器设备的股份制技术型企业。 公司拥有一支从事产品设计、生产制造及售后服务的专业人才队伍,具有完善的工艺、工装、检测和质量管理制度,所有产品的生产均按ISO9001:2008质量体系实施受控管理。公司坚持“与巨人同行,与世界同步”的发展战略,与美国杜邦(DuPont)、法国施耐德电气(Schneider Electric)、法国泰康(Tecumseh)、美国谷轮(Copuland) 、丹麦丹佛斯(Danfoss )、宝钢(Baosteel)等国内外优秀企业建立长期战略合作关系。
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本公司产品符合ISO、GB、GJB、ASTM、DIN、JIS、CNC、UL、MIL、IEC、GMP/FDA等行业标准及大众TL,通用GM汽车行业标准。
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一、HMDS 预处理系统的必要性:
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
二、产品特点:
1、设备外壳采用SUS304不锈钢材质制作,内胆为不锈钢SUS316L材料制成;
采用C型不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;
箱门采用钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品生产情况。
2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内保持高真空度。
3、采用PID控制,系统具有自动控温,定时,超温报警等,采用LCD液晶显示,触摸式按钮,简单易用,性能稳定。
4、智能触摸屏控制系统采用PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。
5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性能*,确保HMDS气体无外漏顾虑。
6、整个内部系统采用优质SUS316L不锈钢材料制作,无发尘材料,适用百级光刻间净化环境。
三、产品型号及参数:
设备型号:EHMDS-110
控温范围:RT+10~250℃
温度分辨率:0.1℃
控温精度:±0.5℃
隔板数量:2块(标配)
真空度:<133Pa
真空泵:DM4(内置连接)
设备电源:AC220/50HZ
额定功率:3.5KW
内胆尺寸mm:450x450x550 (W*D*H)
外形尺寸mm:650x640x1010 (W*D*H)
四、HMDS系列预处理系统的原理:
HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
五、HMDS系列预处理系统的一般工作流程:
首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表面生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间阻止其进一步反应。
六、废气排放:
多余的HMDS蒸汽(废气)将由真空泵抽出,排放到废气收集管道,在无废气收集管道时需做专门处理。
选配件:
1、增加HMDS液体瓶
2、压力记录仪(带曲线)
3、温度记录仪(带曲线)
产地类别 | 国产 |
加热方式 | SSR |
价格区间 | 面议 |
内胆材质 | SUS 316 |
内胆尺寸 | 450x450x550cm |
外形尺寸 | 680x650x1010mm |
温度波动 | ±0.5℃℃ |
温度范围 | RT+10~250℃℃ |
仪器种类 | 真空烘箱 |