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生长因子是一类调节微生物正常生长代谢所必需，但不能用简单的碳、氮源自行合成的有机物。广义的生长因子除了维生素外，还包括碱基、嘌呤、嘧啶、生物素和烟酸等，有时还包括氨基酸营养缺陷突变株所需要的氨基酸在内；而狭义的生长因子一般仅指维生素。一类通过与特异的、高亲和的细胞膜受体结合，调节细胞生长与其他细胞功能等多效应的多肽类物质。存在于血小板和各种成体与胚胎组织及大多数培养细胞中，对不同种类细胞具有一定的专一性。通常培养细胞的生长需要多种生长因子顺序的协调作用，肿瘤细胞具有不依赖生长因子的自主性生长的特点。

普通匀浆胶体磨zui高转速2930转，适用于制备要求不高，附加值不高，量大的产品，而进口匀浆胶体磨转速9000转以上适用于中端产品，附加值相对较高，量大的产品，目前上海依肯匀浆胶体磨，设备转速达14000转，zui高可达21000转，广泛活跃在高端产品市场，其中制药、新材料研发等应用较多。

上海匀浆胶体磨通过皮带传送，可实现2到3倍的加速，同时立式直立的转轴，运转稳定性大大提高，同时转子动平衡性得到提高，间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机有的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理，还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎，chao细物料的均匀分散，以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨也可以成为反应发生的场所，比如两种液体物料反应生成固体颗粒，通过分别通入腔体，两种物料接触时被剪切成微滴，均匀混合后反应生成的粒子大小均匀，并且粒径很小。

用转子-定子装置湿磨物质具有诸多好处：
· 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中，因而从开始就避免了灰尘的形成。
· 与干磨系统不同，被研磨的物质保持在系统内，从而大幅减少了损失。因此，湿磨非常适合有机化学品，尤其是优质物质，或者有毒物质的研磨。
· 相对干磨过程而言，湿磨的产品进料和计量较容易。

从设备角度分析，影响匀浆研磨效果的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

• 磨头的线速率
• 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

为了定制过程，IKN根据众多客户需求，提供下列实验室及生产用解决方案：
· 三级高剪切分散机ER湿磨
· 胶体磨CM湿磨
· 锥体磨CMO湿磨
· CMD2000湿法粉碎机
该机型采用卫生级不锈钢材质，精工制作，在保证湿法超细粉碎效果的基础上，zui大程度确保了设备的稳定性。

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