- 面议
起订量：
SE系列 椭偏仪
- 型号
- SE系列
First-Nano System GmbH
2003年 创立于德国德累斯顿工业大学（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司
2015年 上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务
2018年 深圳正式成立韦氏纳米系统（深圳）有限公司，更好的为中国南方区市场
德国韦氏纳米系统成立以来，一直为客户想的更多，Thinking more ！！！
产品范围：
薄膜沉积/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems
详细信息
椭偏仪是一种利用偏振态的变化 后光束探测样品反应技术。不像反射仪，椭偏仪参数（PSI和Del）是在非正常的入射角得到。改变入射角。可以得到更多的数据集，这将有助于精炼模型，减少不确定性和提高用户的数据信心。因此，可变角度椭偏仪比固定角度的椭偏仪系统具有更强大的功能 。目前有两种方法改变入射角，手动或自动模式。
Ansgtrom Sun公司设计角度调整模型，通过5度间隔后精确预置槽移动手臂手动调节角度和电动精密测角0.01度分辨率两种模型。此外，测角垂直布局设计，样品可以水平放置，这是更安全的处理样品时。可靠的和足够的原始数据集，更多膜的性能参数，如薄膜或涂层 厚度，光学常数（折射率n，消光系数k指数）、接口、孔隙度甚至成分可以通过建模。在这个意义上，*的软件是一个必须为高性能光谱椭偏仪（SE）工具。我们开发了TFprobe 3 x版软件的系统设置。仿真，测量，分析，数据管理和2D / 3D图形演示的一体机。 此外，SE200工具覆盖了很宽的波长范围内，从深紫外线（DUV）在可见光到近红外（250～1100nm），标准配置。DUV范围适合衡量超薄膜，如纳米厚度范围。一个例子是在硅晶片上的原生氧化层，这是典型的2nm厚的。深紫外光谱椭偏仪也是必不可少的，用户需要测量多种材料的带隙。
