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Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
- 型号
- Trion Orion HDCVD
- 参数
- 产地类别:进口
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半导体仪器和电子产品耗材耗材
FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料学博士共同创办的德国公司。基于 “Science is international”的想法，“全球协同实验室”成为三位博士追逐的梦想。
公司愿景是从科学家到科学家，科学开创美好未来。
FIRSTNANO深耕于半导体技术、材料科学、生命科学等科研领域，始终秉承“前沿、专业、科学”的宗旨，将前沿技术引进到协同实验室。我们的产品覆盖了微纳加工制程；材料科学的检测、分析；生命科学成像，脑科学与行为认知等相关领域。作为全球科技前沿的仪器供应商，FIRSTNANO具有全球技术视野、优质供应体系、以及严格的质量管控系统，能为客户提供前沿的技术解决方案。
公司服务的客户领域广泛，其中包括消费电子、航空、航天、医药技术、半导体行业、光电子行业、高校和研究机构。
在成长的过程中，我们脚踏实地、奋勇向前。自2015年香港（中华区）公司成立以来，我们一相继在香港、深圳、上海和武汉设立了分支机构。
我们真诚邀请业内英才加入FIRSTNANO TEAM，一起为梦想扬帆起航！
详细信息
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术，在惰性气体进入口安装感应线圈，周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时，会发生化学反应，然后在衬底表面沉积一层薄膜.
该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度，并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。
射频可通过Chuck改变薄膜性能。
该系统可以升级传送Loadlock，或添加到集群平台Cluster。
该系统可以升级传送Loadlock，或添加到集群平台Cluster。
