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科研真空保护箱式气氛炉
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生产厂家科研真空保护箱式气氛炉可控气氛炉炉内构件抗气氛侵蚀对于吸热式可控气氛,炉衬需要采用抗渗砖砌筑。多数采用可控气氛对电热元件都有侵蚀作用,破坏元件的氧化膜,发生渗碳或渗氮,缩短元件的使用寿命。为了保护电热元件,可将其安装在辐射管内。对暴露在气氛中的元件,应在氧化气氛中加热,使其退碳、退氧,重新形成保护性氧化膜。热电偶的热结点不得暴露在可控气氛巾。
产品描述1.1 温度分类600℃~1200℃;
1.1本款以硅碳棒、或者电阻丝为加热元件,1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
1.4采用*技术,有卧式、立式等多种管式炉型。1.5具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
科研真空保护箱式气氛炉产品特点
2.1节能型的陶瓷纤维材料和双层结构,可将外表温度降到常温。
2.2均温区长,操作简便,密封可靠,综合性能指标较高,处于国内**水平。
2.3可选择配置耐热钢、石英玻璃、刚玉陶瓷等材料炉管
2.4选配:40段可编程控制器、可选择RS-485串口(另购)实现计算机通讯。
2.5 热电偶:采用国标贵金属热电偶丝作为原材料,测出温度准确,不偏离,根据选择电炉的温度而匹配热电偶,K分度(0-1200℃),S分度(0-1600℃),B分度(0-1820℃)
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