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多孔氮化硅TEM载网

型号
厦门超新芯科技有限公司

高级会员6年 

生产厂家

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原位液相,原位气相,真空加热,原位电化学,原位光学,原位力学,原位冷冻

超新芯(CHIPNOVA)是早期原位芯片技术开发研究者,拥有MEMS芯片制造和原位电镜方面的资深团队,10余年来技术不断迭代升级,在电镜中实现了液、气体微环境引入及光、电、力、热等外场控制与高时空分辨显微研究。相关系统在材料、能源、环境、化学、生物等领域广泛应用,促进了人类对微观世界的探索,推动了相关领域的科技进步。

除了继续深耕原位电子显微等科研领域,做世界优秀的科研产品供应商;超新芯(CHIPNOVA)也正将相关技术延伸应用于智慧物联、大健康等民用领域,产品涵盖提供智慧牧场方案的智能项圈、监测实时血糖状况的CGM,为国人提供高品质的技术与服务。


详细信息

多孔氮化硅TEM载网是透射电镜常用的耗材之一,其主要作用为在电镜观察时负载样品,为了能够负载一些小尺寸的样品,载网上通常需要覆盖一层载网膜,载网膜的种类繁多,常见的载网膜为碳膜。多孔氮化硅TEM载网是以高纯单晶硅为基底,超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜,可实现原子级分辨率。

与传统铜网相比,使用的超薄氮化硅膜不含碳元素,可有效避免积碳,尤其适合球差原子分辨表征。超薄氮化硅膜更耐酸耐高温,适用于酸性条件下制备样品,及1000摄氏度的高温环境。具有耐电子束辐照,电子束穿透率高,成像背景均匀和噪音小等优点。可以在不同分析仪器间转移分析,如TEM,AFM,XRD,EXAFS,Raman等。


我们的优势

原子级分辨率

1.超薄非晶氮化硅膜,无不均匀背景;

2.电子束对超薄氮化硅膜穿透率高,成像背景噪音小。


稳定性好

采用超高温镀膜技术,耐电子束辐照,不会破损或抖动导致样品漂移。


超洁净

1.超净室生产;

2.可等离子清洁;

3.载网不含C元素或有机物,避免积碳尤其适合球差原子分辨表征。



技术参数

类别项目参数
基本参数孔尺寸
5x50um
孔数量30-45个
芯片尺寸
2.8*2.8mm












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