参考价：
30万-50万
起订量：
SC7620 溅射镀膜机
- 型号
- SC7620
匀胶机，光刻机，显影机，等离子清洗机，紫外臭氧清洗机，紫外固化箱，压片机，等离子去胶机，刻蚀机，加热板
半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
详细信息
| 溅射镀膜机和SEM /TEM碳镀膜机 |
| Quorum溅射镀膜机 |
| 溅射镀膜机简介 溅射镀膜机和SEM / TEM碳镀膜机 Q Plus系列 是Quorum的市场较好的溅射和碳涂层机系列的*新版本。它们越来越多地用于高分辨率显微镜，其中包括超细涂层。 溅射镀膜是在扫描电子显微镜（SEM）上进行观察之前制备不导电或导电不良的标本的标准方法。Quorum提供低成本，旋转泵浦溅射镀膜机，用于沉积非氧化金属（例如金（Au）和铂（Pt））以及涡轮分子泵镀膜机，适用于氧化和非氧化金属（例如铬（铬）。 为了提供改进的超细涂层，Quorum推出了NEW Q150V Plus，该产品可提供1 x 10 -6 mbar 的极限真空度，以提供出色的效果。 大腔室溅射镀膜机可用于直径*大为200 mm的样品。大多数Quorum涂层机也可以配置为使用易更换的碳棒和碳纤维插件进行碳蒸发。 选购说明： Q150V是适合于高真空应用。这款新产品使用户能够生产出更细的晶粒尺寸和更薄的涂层，以用于超高分辨率应用（放大倍数达20万倍）。 Q150T Plus涂布机适用于SEM，TEM和许多薄膜应用。它有三种形式：作为溅射镀膜机，碳镀膜机，或在单个紧凑系统中同时进行溅射和碳蒸发。 Q150R Plus涂布机适用于使用非氧化性金属的W-SEM溅射应用，以及适用于EDS和WDS的碳涂层SEM标本。 对于较大的样品，Q300T T Plus（涡轮分子泵）型号允许涂覆单个*大直径为8“ / 200 mm的大直径样品（例如晶片），或多个直径相似的较小样品。两个都具有三个溅射头确保涂层均匀沉积。 对于薄膜应用，Q300T D Plus双靶顺序溅射镀膜机可连续溅射金属层，而无需破坏真空。 该Q150 GB是Q150T的模块化版本ES涂布机设计集成到一个手套箱。 范围更广的是SC7620，这是一款紧凑的入门级SEM溅射镀膜机，可提供可选的碳纤维蒸发附件 |
| SC7620迷你溅射镀膜机 SC7620是一款紧凑型入门级SEM溅射镀膜机。当与可选的SC7620-CF碳纤维蒸发附件结合使用时，它是理想的低成本SEM溅射和碳涂层系统封装。此外，SC7620标配带辉光放电功能，使其非常适合碳涂层TEM网格的亲水化或“润湿”以及其他表面改性。 主要特征
对于大多数FE-SEM应用所需的额外细晶粒涂层，需要高真空涂层-请参见Q150T或Q300TT。 有关用于W-SEM应用的全自动涂布机，请参见Q150R。 这些产品仅供研究使用。 操作简便 SC7620是理想的易于使用的仪器，是一款性价比高的设备。专为常规应用而设计，SC7620使用基本的磁控溅射头和易于更换的圆盘靶（金/钯为标准）。溅射头采用铰链连接，易于操作，并配有电气安全联锁装置。面板安装开关可在溅射镀膜和辉光放电模式之间切换系统。 为防止意外损坏，高压导线被屏蔽。等离子电流可通过使用氩气泄漏阀调节真空度并预先设置等离子电压来改变。为了获得*大的溅射镀膜效率，气体喷射器系统可确保氩气进入腔室的位置接近等离子体放电。排气是氩气。 真空要求需要合适的旋转真空泵。为此，Pfeiffer DUO 6 5 m 3 / hr两级旋转真空泵是理想的选择。请参阅：订购信息以获取更多详细信息。快速的循环时间，高度可调的样品台 直径100毫米/ 4英寸的耐热玻璃圆柱体安装在铝制轴环上，并用O型圈密封。较小的真空室尺寸意味着抽气时间和循环时间都很快，并且还允许使用小型经济型旋转泵。 样品台是可调节高度的，可以很容易地卸下以容纳更高的样品。沉积速率由分辨率为15秒的180秒计时器手动控制。压力和等离子电流由模拟仪表监控。 溅射和SEM碳涂层（可选） SC7620将沉积适用于钨丝SEM的涂料，并且具有操作简单，确保可靠性和适用于一般用途的优点。可以通过添加可选的碳蒸发附件将其快速转换为沉积碳，该附件包括可切换的电压电源和碳纤维头。 辉光放电（亲水化）前面板上的三向开关可将SC7620切换到辉光放电模式。新鲜制得的透射电子显微镜（TEM）碳支撑膜倾向于具有疏水性表面，该疏水性表面阻碍了TEM切片从水浴表面收集，并阻止了颗粒悬浮液在负污染溶液中的扩散。因此，在用空气进行辉光放电处理之后，可以使碳膜亲水并带负电荷，从而可以收集TEM截面并易于分散水悬浮液。 |
| Q150V Plus适用于高真空应用中的超细涂层 Q150V Plus针对高真空应用进行了优化，极限真空度为1x10 -6 mbar。结合使用宽范围的Penning / Pirani量规，可以溅射具有超细晶粒尺寸的氧化金属，适用于高分辨率成像。较低的压力从腔室中除去了氧气和水蒸气，避免了溅射过程中的化学反应，否则可能导致涂层中的杂质或缺陷。类似地，较低的散射允许高密度的高纯度无定形碳膜。Q150V Plus具有Q150T Plus的所有优点，但具有更细的晶粒尺寸和更薄的涂层，适用于超高分辨率应用（放大倍数200,000）。 |
| Q150R Plus-旋转泵式涂布机 Q150R Plus适用于Tungsten / LaB6 SEM和台式SEM。 Q150R Plus提供三种格式： 溅射 （Q150R Plus S） 碳纤维蒸发（Q150R Plus E） 溅射和碳线蒸发（Q150R Plus ES） |
| Q150T Plus-涡轮分子泵镀膜机 Q150T Plus经过优化，可与涡轮分子泵配合使用，从而将真空度降低至5 x 10-5 mbar。 Q150T Plus提供三种格式： 用于非氧化性金属的自动溅射镀膜机（Q150T S Plus） 用于SEM应用（Q150T E Plus）的自动碳涂层机（棒/绳） 能够同时进行溅射和碳涂层的组合系统（Q150T ES Plus） |
| Q150 GB涡轮泵溅射镀膜机/手套箱用碳镀膜机 Q150GB是市场的Q150T ES台式涡轮分子泵涂层系统的模块化手套箱版本， 适用于SEM，TEM和许多薄膜应用。Q150 GB标配溅射和碳棒蒸发插件以及旋转样品台。选件包括金属蒸发，辉光放电，膜厚测量和特殊的载物台，以适应各种样品类型 |
| Q300T D Plus-双靶连续溅射，适用于直径*大为150 mm的样品 Q300T D Plus适用于两种材料的多层顺序溅射，具有两个独立的溅射头，可以连续溅射两种金属而无需破坏真空。该系统是*自动化的，具有用户定义的配方，可控制泵送顺序，时间，溅射周期数以及过程中使用的电流。通过在两个靶材之间循环，可以依次溅射两种靶材厚度不限的无限层。不使用时，将目标物关闭以防污染。 |
| Q300T T Plus-三靶溅射镀膜机，用于*大直径200mm的样品 Q300T T Plus是一个大室，涡轮泵送涂层系统，非常适合溅射*大8“ / 200mm的单个大直径样品或类似直径的多个较小的样品。非常适合薄膜应用和SEM / FE- SEM。它配有三个溅射头，以确保单个大样品或多个样品的均匀沉积 |
