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M-SPIN 200 匀胶旋涂仪M-SPIN

型号
M-SPIN 200
参数
产地类别:进口 应用领域:医疗卫生,化工,生物产业,能源,电子
迈可诺技术有限公司

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半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息

匀胶旋涂仪M-SPIN 200是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径大为8英寸的晶圆片,或大为6英寸 x 6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作,分配移动托盘,可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制,和可视化全图形触摸面板。M-Spin 200匀胶旋涂仪包含一个内置模块,该模块连接到柔性电缆,外接到一个19英寸外部控件上。

匀胶旋涂仪M-SPIN 200产品参数:

可处理衬底尺寸:直径大为8英寸的晶圆片,或大为6英寸 x 6英寸的衬底;

旋转速度:达9,000 rpm(以1 rpm步长可调);

固定晶圆片或衬底的装置:真空托盘;

处理时间:(1-999秒,可在1秒内调整);

加速度:1-5,000rmp/sec;

其他参数:20个程序段,每个40步

设备尺寸:约 480mmx 360mm x 416mm(不带盖子)

控制器尺寸:约 145mmx 100mm x 120mm

 

产品选配件:

适用各种尺寸大小的托盘

分配臂

 

主营产品:

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

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Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统,湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机

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