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APS100型 美国MAS高浓度纳米粒度仪

型号
APS100型
参数
测量范围:5nm-100μ微米 测量时间:1-10min秒 产地类别:进口 分辨率:大于0.1nm微米 分散方式:湿法分散 价格区间:100万-150万 仪器种类:动态光散射 应用领域:医疗卫生,环保,食品,化工,生物产业 重现性:<1%
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上海胤煌科技有限公司是一家专注于为半导体、面板、医药及材料行业提供检测分析设备及技术服务的高科技公司,公司拥有检测平台可以为客户提供专业的第三方检测服务。

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详细信息

美国MAS高浓度纳米粒度仪

原理简介:

APS 从声衰减光谱测量产生PSD数据,不需要稀释样品。APS还测量粒度范围的10纳米到100微米的样品的声音速度谱、pH、电导率和温度。

当声音穿越泥浆或胶体时,是衰减的。衰减的程度与粒度分布有关。APS可在1 - 100 MHz的频率范围内非常准确地测量声音衰减。因为声音穿过所有的物质媒介,APS声音衰减的测量可以在高浓度和/或不透明的样品中进行。粒子沉降并不是一个问题,因为在测量时样品可以被搅拌或泵送。APS分析不受样品的Zeta电势水平的约束。APS很容易分析零粒子和高电荷。

APS取样分析是快速和容易的,无需稀释样品。稀释样品费时,容易出错,并可能改变样品的实际PSD。简单地倒,或者连续泵送样品进入到APS的样品室,APS的直观的软件在几分钟内做玩余下的工作。

计算详细PSD数据的技术,不需要假设PSD形状。其他类型的仪器,例如光散射,意味着软件或操作者假设或猜测PSD是单峰、双峰、对数正态或高斯分布的。这种假设可能导致数据不可靠。

专门的APS硬件设计简化了操作,同时减少维护。这个设计适合研发以及重复质量控制测量。APS也适合过程在线操作。

美国MAS高浓度纳米粒度仪

主要用途:

1)半导体化学机械抛光(CMP)料浆;

2)陶瓷;

3)油墨;

4)乳剂稳定性;

5)药品;

6)生物胶体;

7)荧光粉;

8)有机和无机颜料如Ti02和炭黑;

9)催化剂;

10)矿物;

11)聚合物乳液;

12)水和非水分散体系;

技术参数:

1)完整的粒度分布,而不是简单的平均值和标准偏差大小的数据;

2)不需要稀释样品;

3)不需要假设PSD形状;

4)粒度范围:0.005-100微米;

5)无电解质干涉;

6)可测量水的/非水的/不透明的/粘性的样品;

7)可测量纵向粘度,%固体,PH值,电导率,温度,声衰减和声速度谱;

8)具有自动滴定选项;

9)专门技术:1-100MHz声衰减谱;

10)溶剂:水/非水;

11)样品固体%:0.1-60%体积比;

12)样品体积:标准是120ml,50ml小体积可用;

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产品参数

测量范围 5nm-100μ微米
测量时间 1-10min秒
产地类别 进口
分辨率 大于0.1nm微米
分散方式 湿法分散
价格区间 100万-150万
仪器种类 动态光散射
应用领域 医疗卫生,环保,食品,化工,生物产业
重现性 <1%
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