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Nano PVD系列 台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD
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- Nano PVD系列
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我们是谁
美国Quantum Design公司是科学仪器制造商，其研发生产的系列磁学测量系统及综合物性测量系统已成为业内进的测量平台，广泛分布于全球材料、物理、化学、纳米等研究域的科研实验室。Quantum量子科学仪器贸易（北京）有限公司(暨Quantum Design中国子公司) 成立于2004年，是美国Quantum Design公司设立的诸多子公司之，在全权负责美国Quantum Design公司本部产品在中国的销售及售后技术支持的同时，还致力于和范围内物理、化学、生物域的科学仪器制造商进行密切合作，帮助中国市场引进更多全球范围内的质设备和技术，助力中国科学家的项目研究和发展。
我们的理念
Quantum Design中国的长期目标是成为中国与进行进技术、进仪器交流的重要桥头堡。助力中国科技发展的十几年中，Quantum Design中国时刻保持着积进取、不忘初心、精益求精的态度，为中国科学家提供更质的科学和技术支持。随着中国科学在舞台变得愈加举足轻重，Quantum Design中国将继续秉承“For Scientist, By Scientist”的理念，助力中国科技蓬勃发展，助力中国科技在腾飞！
我们的团队
Quantum Design中国拥有支具备强大技术背景、职业化工作作风的团队，并致力于培养并引进更多博士业技术人才。目前公司业务团队高学历业硕博人才已占比超过70%以上，高水平人才的不断加入和日益密切的团队配合帮助QD中国实现连续几年销售业绩的持续增长
我们的服务
Quantum Design中国拥有完善的本地化售前、售中和售后服务体系。国内本地设有价值超过50万美元的备件库，用于加速售后服务响应速度；同时设有超过300万美元的样机实验室，支持客户对设备进行进步体验和深度了解。 “不仅提供超的产品，还提供超的售后服务”这将是Quantum Design中国区别于其他科研仪器供应商的重要征，也正成为越来越多科学工作者选择Quantum Design中国的重要原因。
详细信息
台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD
基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞大学、伦敦玛丽大学等多所著名大学科研团队的具体需求，经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台，该系列产品包含了磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧，但是性能越，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射和反应溅射功能也可以在该系列产品上实现。准确的有机物沉积系统更是该系列的大色。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。
设备型号
台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A
nanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology倾力打造的款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧，但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足前沿学术研究的问题。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。
nanoPVD S10A多可安装3个水冷式溅射源，可实现高功率持续运行，靶材尺寸与大型系统样是行业通用尺寸。系统可以实现两源共溅射方案，可以实现反应溅射方案，多可同时控制3路气体。系统具有分子泵，可快速达到5*10-7mbar高真空。腔体取放样品非常方便，样品台大尺寸4英寸，系统有智能化的触屏控制系统，采用完备的安全设计方案。
nanoPVD S10A可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。
| 主要点： ◎ 水冷式溅射源，通用2英寸设计 ◎ MFC流量计高精度控制过程气体 ◎ DC/RF溅射电源可选 ◎ 全自动触摸屏控制方案 ◎ 可设定、储存多个溅射程序 ◎ 大4英寸基片 ◎ 本底真空<5*10-7mbar ◎ 系统维护简单 ◎ 完备的安全性设计 ◎ 兼容超净间 ◎ 性能稳定 选件： ◎ 机械泵类型可选 ◎ 样品腔快速充气 ◎ 自动高精度压力控制 ◎ 添加过程气体 ◎ 500℃衬底加热 ◎ 衬底旋转，Z向调节 ◎ 三源溅射系统 ◎ 共溅射方案 ◎ DC/RF溅射电源可选 ◎ 溅射电源自动切换系统 ◎ 晶振膜厚测量系统 典型配置方案： 金属沉积：2个溅射靶，配DC电源与电源切换系统，衬底Z向调节与挡板系统，晶振膜厚测量系统。 缘材料沉积：2个溅射靶，配RF电源与电源切换系统，衬底加热与氧气通入气路，衬底Z向调节与挡板系统，晶振膜厚测量系统。 反应/共溅射:三个溅射靶，配备DC/RF电源与自由切换系统，三路过程气体（Ar、O2、N2）用于沉积氧化物或氮化物。 |
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台式超大面积高质量薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A-WA
Moorfield Nanotechnology根据客户超大样品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面积高质量薄膜磁控溅射系统。该型号是nanoPVD-S10A的拓展型号，用于制备超大尺寸的样品，大样品可达8英寸。
该系统基于nanoPVD-S10A的成熟设计和越性能，在相同腔体的设计基础上对nanoPVD-S10A进行了调整，使溅射源正对衬底。结合衬底旋转，即使在生长8英寸的超大样品时也可获得很高的样品均匀度。与nanoPVD-S10A样，溅射源采用水冷式设计，可以持续高功率运行，可实现共溅射等功能。nanoPVD-S10-WA是款接受半定制化的设备，如有殊需求请联系我们进行详细讨论。
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| 主要点： ◎ 可制备8英寸超大样品 ◎ 水冷式2英寸标准溅射源 ◎ MFC流量计高精度控制过程气体 ◎ 直流/交流溅射电源可选 ◎ 全自动触屏控制 ◎ 可设定、存储多个生长程序 ◎ 本底真空<5×10-7mbar ◎ 易于维护 ◎ 全面安全性设计 ◎ 兼容超净间 ◎ 系统性能稳定
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| 选件： ◎ 机械泵类型可选 ◎ 腔体快速充气 ◎ 自动高分辨压力控制 ◎ 增加过程气体 ◎ 升至双溅射源 ◎ DC/RF电源可选 ◎ 溅射电源切换 ◎ 共溅射方案 ◎ 晶振膜厚测量系统 |
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台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15A
nanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型号，高腔体设计方案为热蒸发而设计，确保薄膜均匀度，大可生长4英寸的薄膜样品。近年时间在英国安装就有十几套，剑桥大学、巴斯大学、埃克塞大学、伦敦玛丽大学等都是该设备的用户。
系统可以配备低温蒸发(LTE)和标准电阻蒸发源，分别用于沉积有机物和金属薄膜。低热容有机物蒸发源具有高精度的控制电源，可以准确的控制蒸发条件制备高质量的有机物薄膜。金属源采用盒式屏蔽模式，可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使PVD-T15A非常适合应用于材料研究域。
nanoPVD T15A可用于制备高质量的金属、有机物薄膜和异质结等材料。可应用于传统材料科学和新型的OLED（有机发光二管）、OPV（有机光伏材料）和 OFET（有机场效应管）域。
| 主要点： ◎ 可选金属、有机物蒸发源 ◎ 高纵横比的腔体，增加样品均匀性 ◎ 全自动触屏控制系统 ◎ 可设定、储存多个蒸发程序 ◎ 大4” 基片 ◎ 本底真空<5*10-7mbar ◎ 维护简单 ◎ 完备的安全性设计 ◎ 性能稳定
选件： ◎ 机械泵类型可选 ◎ 样品腔快速充气 ◎ 自动高精度压力控制 ◎ 多4个有机蒸发源 ◎ 多2个金属蒸发源 ◎ 500℃衬底加热 ◎ 衬底旋转，Z向调节 ◎ 晶振测量系统
典型配置指标： 金属沉积：双金属源与挡板和晶振系统 有机物沉积：四个低温蒸发源与挡板和晶振系统。 金属/有机物沉积：两个金属源，两个有机源与挡板和晶振系统。 |
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发表文章
A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state density
Jin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2
作者报道了用用氧化锌和PtOx肖基接触界面制备高速肖基二管整流器的方法。为此，作者使用PE-ALD沉积ZnO，使用Moorfield nanoPVD-S10A系统通过射频溅射制备金属层和PtOx接触层，包括反应溅射模式(通过含氧气氛沉积Pt)。所制备的器件具有适用于噪声敏感和高频电子器件的性能。
用户单位
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剑桥大学 |
帝国理工学院 |
埃克塞大学 |
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巴斯大学 |
诺森比亚大学 |
伦敦玛丽大学 |
