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UTA-IA 无掩膜光刻机
- 型号
- UTA-IA
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白光共聚焦显微镜，应力双折射仪，无掩膜光刻机，内型面检测仪，微区取样仪
北京欧屹科技有限公司是以激光、光电仪器、电子封装设备为核心业务的专业代理经销商和服务商，欧屹科技主创成员具有20多年的技术和行业经验，我们为客户引进*的激光器、光电测量仪器、光电系统、电子封装设备等高精尖仪器设备,其中高功率半导体激光器，微光学透镜，划片机，Lasertec共聚焦显微镜，无掩膜光刻机，双折射应力仪尤其受到客户的赞许。另外，欧屹科技以专业的技术支持和完善的售后服务；用我们丰富贸易经验为广大用户提供*的支持和服务，免除客户的后顾之忧，我们的理念是踏踏实实做事，明明白白做人，以诚信立足，为客户创造价值。
详细信息
无掩膜光刻机装置概述：
显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
图案可以在PC上自由创建。
因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极，所以它比电子束光刻便宜且简单，不需要制造昂贵的电极图案掩膜。
无掩膜光刻机应用：
薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。
从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。
研发应用的图案形成。
参数：
由于显微镜和DLP的结合，可以用很低的成本来构建系统。
易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案。
通过物镜放大倍率图案，可以进行大范围的批量曝光。
可以连接到您自己的显微镜上（选项）。
分辨率在微米级。
曝光范围：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um。
可以连接到您自己的显微镜上（选项）。
分辨率在微米级。
曝光范围：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um。
