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等离子去胶机
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生产厂家深圳金铂利莱科技有限公司成立于2014年,引用源自德国25年等离子系统研发技术,是一家专业从事等离子蚀刻/清洁系统的研发与生产制造于一体的高科技企业。等离子清洗机公司简介:公司成立以来一直为手机、电脑、线路板、LED、半导体、光电太阳能、汽车、医疗等高科技电子领域及大规模工业领域客户提供等离子处理系统。
等离子清洗机应用领域:
光学镜片清洗:清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
去除氧化物:移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。
芯片清洗:清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
表面修饰:高分子材料表面的修饰。
封装领域:封装领域中的清洗和改性,增强其粘附性,适用于直接封装及粘和。
改善粘合力:改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力
涂覆镀膜:对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增强表面粘附性、浸润性、相容性,显著提高涂覆镀膜质量。
牙科领域:对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理,增强其浸润性和相容性。
医用领域:修复学上移植物和生物材料表面的预处理,增强其浸润性、粘附性和相容性及对医疗器械的消毒和杀菌。
等离子去胶机,去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中,通入少量氧气,加1500 V高压,由高频信号发生器产生高频信号,使石英管内形成强的电磁场,使氧气电离,形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化氧(活泼的原子态氧)可以迅速地将聚酰亚胺膜氧化成为可挥发性气体,被机械泵抽走,这样就把硅片上的聚酰亚胺膜去除了。
等离子去胶机仪器简介:
等离子去胶机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。
不同位置的处理均匀性很高,这一特性对于工业领域进行下一环节的贴合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。
等离子去胶机的应用:
1. 高分子材料表面修饰。
2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
4. 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
5. 清洗半导体元件、印刷线路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉积凝胶的基片。
8. 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
10. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
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