实验室超声波清洗设备最早出现于20世纪30年代早期，当时，位于美国新泽西州的美国无线电公司的一个实验室中的技术人员尝试用自制的简陋超声波清洗系统清洗某些物体，但试验未获成功。在此基础上，超声波清洗技术在20世纪50年代有了很大的发展，当时使用的超声波工作频率在20～ 40 kHz之间。

　　该范围内的超声波被应用在数千种不同的工作场合下，其中许多是别的清洗手段不能很好发挥作用的场合。超声波可以对工件施加非常巨大的能量，尤其适用于清除牢固地附着在基底上的污垢。然而在某些情况下，超声波强大的能量也会损伤粘有污垢而性质脆弱的基底材料。

　　在过去的十几年中，超声波领域中出现了一些技术革新，提高了清除敏感基底上的污物的安全系数。在此期间，超声波技术，特别是中高频超声波清洗技术有了新的发展，并成为行业的亮点。

　　近年来，人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同，把40 kHz及其以下的称为常规或低频超声波，把1 000 kHz以上的称为高频超声波，又称兆频超声波，简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒，并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。

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　　温度控制：数字显示设定(常温-80度)

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