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DP100-BE-H 加热型基本提拉镀膜机

型号
DP100-BE-H
参数
产地类别:国产 应用领域:化工,石油,综合
江苏雷博科学仪器有限公司

高级会员4年 

生产厂家

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匀胶机,烤胶机,涂膜机,狭缝涂布机,紫外清洗机,电解双喷仪

       江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌 ,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制化服务的供应商。
       公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology®是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science®是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。
       公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。 

       公司目前团队人数80多人,业绩和规模处于快速扩展期,2013年起年销售额一直保持快速增长,目前正准备二轮融资扩产。公司生产厂房设有装配洁净车间及黄光试验区,其中生产区域约1500平方米,办公及仓储区域约1000平方米。

详细信息

  科研镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
 
  需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。
 
  蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
 
  科研镀膜机产品参数:
 
  1.运行速度: 0.1-600 mm/min
 
  2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm
 
  3.额定线性推力: >50 N
 
  4.浸渍时间:0-9999.9 s
 
  5.重复镀膜间隔时间0-9999.9 s
 
  6.重复镀膜步骤:1-999次,重复镀膜间隔时间:0-9999.9s
 
  7.晶片选择尺寸:大长100mm
 
  8.4.3寸全彩触屏,简单易用,标配触屏笔操作
 
  9.结构紧凑,易于放置在手套箱内使用
 
  10.自带帮助功能,对初次使用者提供使用向导功能
 
  11.提供手动上下高度调节,方便位置设置
 
  12.可命名存贮100组镀膜程序,方便随时调用
 
  13.产品外形尺寸:227(W)*350(D)*416(H)
 
在DP100-BE基础上增加底部加热功能:
 
  1.控温范围:室温到120℃(更高温度可定制)
 
  2.高精密数显温控表控制,控温精度:±0.5℃
 

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产品参数

产地类别 国产
应用领域 化工,石油,综合
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详询客服 : 0571-87858618
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