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Large Area Pulsed 大尺寸脉冲激光沉积系统

型号
Large Area Pulsed
参数
产地类别:进口 价格区间:面议 应用领域:化工,生物产业,能源,航天,综合
北京正通远恒科技有限公司

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产品主要涉及以下四个方面:1. 表面/界面2. 生物/药物分子相互作用3. 界面/混凝土流变4. 薄膜沉积与表征

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北京正通远恒科技有限公司成立于2001年,是一家经营欧美等国测试仪器和设备,并将技术引入国内的科技服务型企业.经过十年的发展,公司在北京、上海、广州、合肥均设有办事处。

公司的主营仪器包括:分子相互作用分析仪器、表/界面分析测试仪器、半导体器件测试仪器、薄膜沉积与表征仪器等。

公司愿意成为深刻了解客户心理、全面满足客户需求,以应用为基础的专业仪器设备供应商、专有技术提供商,实现公司在行业内的超常规发展。





详细信息

产品简介

Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用了独\特的Neocera设计,当激光束扫描时,可以在目标上产生固定的激光通量(J/cm2)。当激光束通过目标表面扫描时,激光束扫描使用独\特的扫描程序。激光位置在目标上的停留时间遵循逆速度程序,促进了薄膜厚度的良好控制。用户可以*控制扫描参数的必要改变,厚度轮廓取决于沉积压力。


产品特点

•全自动大尺寸PLD系统

•晶圆尺寸:4 "(100毫米),6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径

•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积

•高温下氧化膜沉积的氧相容性

•自动激光扫描厚度均匀性


技术参数

1.衬底尺寸:(直径)4 " (100mm),6 " (150mm)和8 " (200mn)

2.PLD腔室尺寸:18英寸直径球体或圆柱体。

3.衬底加热:850 ℃(4 "wafers)),750℃(6 "wafers),700℃(8" wafers)

4.目标旋转: 直径4 × 2"

5.厚度均匀性: ±5%或更好。

6.工业气体: O2, N2, Ar, (MFC控制)

7.Loadlocks: 包括

8.自动化: Windows 7, LabView 2013





























































































































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产品参数

产地类别 进口
价格区间 面议
应用领域 化工,生物产业,能源,航天,综合
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