比如：

半导体（硅，单晶硅，多晶硅）

半导体化合物（AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS）

微电子机械（MEMS）

氧化物/氮化物

光刻胶

硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）

聚合物涂层（聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺）

高分子聚合物

MProbe膜厚测量仪（测量厚度1nm~1.8mm）操作简单，只需一键操作即可获得样品的厚度、折射率（n, k）和表面粗糙度等信息，膜厚测量设备可支持不同光谱范围，光谱范围可达200-1700nm，因此可测量厚度范围可从1nm到2mm。 设备中无移动组件，所以测量结果几乎是即时得到的；TFCompanion测量软件使得测量过程非常简单且透明，测量历史、动态测量、模拟、颜色分析、直接在样品图像上显示结果。

膜厚测量仪分类：

1、单点膜厚测量——MPROBE-20

MPROBE-20膜厚测量仪是一款台式单点膜厚测量设备，设备操作简单，一键获得样品的厚度和折射率，并可提供不同波段范围（适用于不同厚度薄膜）选择。MPROBE-20具有以下几种型号，客户可根据自己所需的波长范围和薄膜厚度进行选择。

可供选择型号：

2、单点手持膜厚测量——MPROBE HC

MPROBE HC膜厚测量仪是一款基于MPROBE-20平台开发专用于测量曲面和大型零件上的涂层，用手动探针代替样品台。

主要参数：

3、聚焦光斑膜厚测量仪——MPROBE 40

MPROBE 40是一款聚焦的小光斑膜厚测量系统，该产品将显微系统和膜厚测量设备结合起来，用于对膜厚的微区测量，光斑可达2μm。该设备集成相机和软件，可精确显示待测位置，并同时显示测量结果。

该设备有不同波长范围可选，可供选择的产品型号如下：

4、原位测量膜厚测量仪——MPROBE 50 INSITU

MPROBE 50 INSITU是一款支持原位测量膜厚测量仪，该设备采用门控数据采集方式因此可以在高环境光的条件下工作。此外该型号膜厚测量仪支持定制以满足不同形状的真空腔。根据可用的光学窗口，支持斜入射和垂直入射。光线可以聚焦样品表面或准直,探测探头可以放置在沉积室光学端口内部或外部，由于该膜厚测量仪没有移动部件，通常测量时间约10ms。

此外该型号还有多种波段范围可选，可供选择型号如下

5、支持Mapping的聚焦膜厚测量仪——MPROBE 60

MPROBE 60是一款聚焦并可做mapping的膜厚测量设备，重复精度可达0.01nm，精度可达1nm，mapping面积可达300*300mm。并支持多种波长范围可选。

可选波长型号：

6、在线膜厚测量仪——MProbe 70

MProbe 70是一款高性能膜厚测量仪，主要设计用于24/7生产线上的连续测量。该设备主要有两种配置一个是在产线上配备多个固定的探头，第二种是将探头装在扫描仪上扫描。