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科研3D打印机

型号
参数
品牌:自营品牌 应用领域:医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药 光学精度:2μm 打印材料:光敏树脂 打印层厚:5-20μm 最大打印尺寸:50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) 光源:UV LED(405nm)
深圳摩方新材科技有限公司

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微纳3D打印机,高精密3D打印机

摩方精密(BMF, Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发,提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案,同时,可结合不同材料及工艺,实现终端产品高效、低成本批量化生产及销售。

在科研领域,摩方自主研发的3D打印系统已被美国Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英国诺丁汉、德国德累斯顿工大、清华、北大、上海交大、浙江大学、南京大学、北航、西交大、中科大、华中科大、港中文、港城大、阿联酋哈里发大学、丹麦科技大学、德国于利希研究中心等众多全球顶级高校和科研机构使用。

在工业领域,作为专注于高精密增材制造领域的企业,摩方公司已和众多全球500强企业开展业务合作,包括GE医疗、Merck、美国强生、日本电装、安费诺、3M、泰科、华为、立讯、中石油等,产品广泛应用于连接器、内窥镜、医疗器械、消费电子、包装和通讯等行业。

 

 

 

详细信息

一、科研3D打印机介绍

nanoArch P140是科研级3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

微纳制造 精密必现

nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻技术(PμSL:Projection Micro Stereolithography)

 

二、科研3D打印nanoArch P140 系统简介

nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

科研3D打印机

 

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产品参数

品牌 自营品牌
应用领域 医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药
光学精度 2μm
打印材料 光敏树脂
打印层厚 5-20μm
最大打印尺寸 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源 UV LED(405nm)

规格类型

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