PHI GENESIS X射线光电子能谱仪 优势特点：

上市时间：2022年
1、谱学性能提升

- 使用微聚焦扫描 X 射线源进行小面积和大面积分析时具有更高灵敏度

2、新功能！大面积成像分析

- 扫描X射线影像（SXI）功能增加样品台驱动功能，用于大面积分析导航

- 增加大面积化学态影像及叠加分析功能

3、高性能深度剖析

-适用于各种有机、无机和混合材料的多种离子枪配置

-先进的薄膜结构分析软件

4、可靠的自动化和远程操作

-高度可配置的序列系统，让分析过程自动化和效率更高

-可*远程操作和远程诊断

5、更环保、现代化的配置

- 高效节能、快速真空获取和符合人体工程学的设计。

PHI GENESIS X射线光电子能谱仪关键技术

• 从小面积到大面积的高灵敏度分析。

• excellent的深度剖析表现。

• 自动电荷双束中和技术。

• 自动化和远程控制，提供灵活的工作环境。

• 多样化的配置。

1、微聚焦的扫描X射线源

全新设计的高灵敏度和低噪音能量分析器

作为一种重要的表面分析方法，广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究，例如电池材料、催化剂、集成电路、半导体、金属、聚合物、陶瓷和玻璃等，可满足从研发到失效分析的广泛分析需求。

采用了全新设计的高灵敏度分析器，灵敏度是上一代的2倍，具有更低的检测限，能够实现从微区(<10>1 mm)的高灵敏度化学态分析。

微聚焦扫描X射线和 SXI影像，通过类似SEM的SXI影像可以作为样品导航，实现精准地定义微区分析位置。

SXI: 扫描X射线激发的二次电子影像

2、excellent的深度剖析表现

使用微区XPS分析技术进行准确的深度剖析

PHI GENESIS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了深度分析的excellent性能。样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现高深度分辨率和高能量精度。

3、自动电荷双束中和技术

无需参数调整即可满足任何绝缘样品微区分析的荷电中和需求

PHI GENESIS 配备了自动中和技术，无需分别对每个待测样品进行中和参数调整。自动中和采用低能量电子束和低能量离子束的双束同时中和的技术，实现了简单可靠的高效中和。

该技术适用于中和各种材料，配合操作软件所提供的图像配准功能，可为微区分析带来excellent的自动化操作体验。对于无机/有机混合材料以及从微区到大面积的所有分析尺寸，均可以进行可靠且自动化的检测分析。