氧/氮/氢分析仪

EMGA-Pro：高速分析和高可用性性能突出的标准型

大幅提高准确性和可用性，优化检测过程

金属和固体材料（包括钢铁、各种有色金属、陶瓷和电子材料）的特性和性能取决于氧、氮和氢的含量。在材料的研究和性能分析中，元素含量检测的高精度和分析用的样品量少的要求变得越来越重要。EMGA系列氧/氮/氢分析仪显著减少了分析时间和成本，同时提高了分析精度和设备关键性能。EMGA系列还追求可用性，强力支持提高材料研发和质量控制的效率。

型号EMGA-20P+H不在美洲销售。更多信息，请联系我们。

概要：

Principle and Gas flow diagram

原理和气体流动图

将样品置于石墨坩埚中，坩埚保持在脉冲炉的上电极和下电极之间。大电流通过坩埚产生高温。

样品中的氧化物（氧元素）与石墨坩埚反应，以一氧化碳（CO）的形式释放出来，并与载气一起被提取。提取的气体经过除尘后直接进行分析。根据样品中氧的浓度不同，实际的检测是用非分散红外检测技术测定CO或CO2（CO气体通过氧化剂（氧化铜）后生成的）从而确定氧元素的含量。

样品中的氢在脉冲炉加热过程中以氢气的形式提取，再通过氧化剂（氧化铜）氧化成气态H2O后，用非色散红外检测器测定，从而计算氢元素的含量。

中的氮加热后生成氮气（N２），随载气提取后由热导检测器（TCD）测定。

特点

• 配备各种导航功能
  HORIBA充分利用其４０多年积累的经验，为客户提供从分析、维护到故障问题排除的全面实时支持，保证分析设备的平稳运行，提高检测效率，减少工作时间。

• 丰富的选项阵容
  除了自动进样器、自动清扫装置和坩埚自动加载系统（这些装置或系统均是为应对客户的需求而开发的）之外，全自动分析系统全面提高检测流程的自动化，减少分析的工作量，实现稳定的分析。我们还根据各种应用或样品提供更多的可选单元，例如卤素捕集器等。

快速测量

HORIBA专有的序列算法大幅度缩短全流程分析时间*　　　　　* 已申请专利

超痕量、高准确度、高重现性

HORIBA探测器

EMGA系列具有由HORIBA自己开发、设计和制造的NDIR气体探测器。基于详细的设计和先进的生产技术，在这些探测器的制造过程中密切关注所有工艺过程，从部件的抛光和组装到稳定运行的调整和确认。我们的全面质量控制为EMGA系列提供了长期稳定且高度可靠的检测性能。此外，HORIBA也独自开发TCD检测器，保证这些分析仪能够展现其最佳性能。

减少维护工作时间和频率

采用全新构造境=降低消耗

• 方便维护的下电极*      * 已申请专利    
  全新的下电极的维护仅仅是拆下电极片盖，然后更换下电极片，所需的维护时间缩短到了原来的1/10。
  

• 粉尘过滤器*          
  全新设计的粉尘过滤装置使其维护操作仅仅是更换过滤器中的过滤膜片，而且更换频率下降到了原来的1/10 ( 更换周期长达500次样品检测)。

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• 大幅度降低载气消耗*    
  对于常用的47升气瓶，一瓶气可以进行测量的次数从大约1400次显著增加到2300次。

多种导航功能全面支持分析、维护和故障排除

EMGA系列独到的应用软件包括HORIBA几十年积累的分析诀窍----“分析导航”，它可以根据测量样品信息给出最佳测量条件和操作程序；“维护导航”可以以视频方式指导维护操作；“故障分析导航”可以指示排除故障的方法和具体操作。

1. 分析导航

2. 维护导航
维护导航给出明确的维护方法，引导用户按照标准程序完成维护工作项目，以视频方式指示具体的维护操作，确保维护工作安全、完整地进行，减少个人之间维护工作的差异，有助于分析仪的稳定运行。

• 维护导航界面
  

• 维护界面
  用户可以执行维护工作所有的操作，包括电磁阀动作操作和泄漏检查等。
  

• 维护计数界面
  显示每个维护项目的维护周期计数限值和当前值，如果达到设维护周期计数限值，会给出相应项目需要维护的提示报警。
  

3. 故障分析导航
故障出现时，当前显示的报警屏幕会同时指示最佳排除方法，并以图像和视频解释如何进行故障排除并恢复设备。关于故障排除的步骤和方法是实时在线给出的，这将缩短仪器的停机时间。
故障分析导航界面

通过自动化分析促进节省人力成本

丰富的定制化选项

EMGA系列具有自动化检测所需的许多功能，节省检测工作的人力并确保安全。

坩埚加载装置可以自动将新坩埚添加到炉内，自动清扫装置可以自动取出废坩埚并清扫电极炉，自动进样器可以实现自动投样，再加上全自动分析系统，EMGA分析设备实现了全面的自动化检测流程，同时保证清洁、安全的检测环境。另外，通过优化检测程序极大地检化了检测操作，操作者只需投入样品并输入预设值（测量条件和样品名称）后按下开始按钮即可。

• 坩埚加载单元 (自动坩埚加载系统)*      * 专利号 : US8172072, EP2138849, CN105510614,JP05086918, JP05068702
  通过旋转机构准确定位和捕获坩埚。最大贮存量: 100 个，同时适合标准坩埚和长坩埚。 观看视频
  

• 自动清扫装置*     * 专利号 : JP05198947, JP05155751
  每次检测完成后，两个旋转刷自动清扫上、下电极，真空吸尘器同时吸走粉尘，避免污染。 观看视频
  

• 自动进样器

• 自动投入样品和助熔剂，最多可以预先放入22个样品和助熔剂。 观看视频
  

• 全自动分析系统      * 专利号: JP05043802

• 该系统支持分析工作的*自动化。它有一个完整的安全机制，还支持与在线主控系统的通信。该系统可根据客户的测量条件和通信规格进行定制（例如：从称重到完成分析）。

• *照片中显示的选项规格可能与实际选项的规格不同。

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配置：