- ¥7579.651起订
参考价：
起订量：
CVD铜基单层氮化硼薄膜
- 型号
该企业相似产品
石墨烯等低维材料的研发、制备、检测和应用
泰州巨纳新能源有限公司(SUNANO ENERGY)于2010年7月成立，是低维材料领域的ling导企业，也是石墨烯及二维材料术语国家标准*起草单位、全国纳米技术标准化技术委员会低维纳米结构与性能工作组SAC/TC279?WG9秘书处单位，建有国家火炬泰州石墨烯研究检测平台。
注册资本人民币1.1亿元，主要从事石墨烯等低维材料的研发、制备、检测和应用。
研发团队主要由留学英国、美国、法国、新加坡的博士组成，部分成员来自于2010年诺贝尔物理学奖小组，客户遍布*。同时，管理团队有丰富的海内外成功经验。
详细信息
Single layer h-BN (Boron Nitride) monolayer thick film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct band gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms. Our h-BN CVD process has been adopted in order that defect density has been kept low (~1E10-1E11 cm-2) and single domain sizes have been increased to reduce 1D grain boudary defect concentrations. Monolayer h-BN sheets measure ~5cm x 5cm or ~2x2 inches in size.
Properties of h-BN
