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HMDS-210F HMDS真空干燥箱 HMDS预处理系统
- 型号
- HMDS-210F
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市场全国，向各大高校、科研院所、企业提供量身定制的专业化、高性价比的实验室仪器设备一站式解决方案及非标定制化产品。
并和北京大学、中国科学院、广东林业科学研究院、浙江大学、南京航空航天大学、中科院研究所、北京航空材料研究所、北京化工大学等建立了长期的合作关系在业内得到了高度的认同和广泛的赞誉。
宁怀仪器研发的核心产品有“真空干燥箱、智能试验箱、鼓风干燥箱、恒温培养箱、恒温摇床、恒温水槽、振荡器、超声波细胞破碎”等，为客户提供实验室一站化等一体化解决方案。在服务方面，宁怀仪器制定了完善的服务体系，主要分为售前、售中和售后；
品质至上，用心服务是宁怀笃行的宗旨
诚信为本，创新为魂是宁怀秉承的原则
注重实效，争创佳绩是宁怀诚挚的追求
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我们宁怀仪器愿意与您携手谋发展，开辟新天地，为更多用户能享受宁怀仪器NHUAI产品提供更优化的服务而不断努力！
品牌：宁怀仪器
详细信息
技术参数：
HMDS预处理系统的必要性：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要，光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形
转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS真空干燥箱 HMDS预处理系统
HMDS预处理系统的原理：
HMDS预处理系统通过对真空干燥箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS真空干燥箱 HMDS预处理系统
HMDS预处理系统的一般工作流程：
先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氨气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氨气的过程，到达设定的充入氢气次数后，开始保持一段时间，使硅片宁怀仪器充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氨气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃－200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醒，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻（三甲基硅烷基较大）阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理，
