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沉积系统

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应用领域:环保,化工,电子
北京瑞科中仪科技有限公司

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半导体材料分析,材料刻蚀

北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队,专精的服务,提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向,用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流,打消顾虑,彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念,以人为本的企业文化,我们始终为用户提供专业的服务!

合作丨共赢,选择我们,选择未来!

 

详细信息

沉积系统介绍

高产量

等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合,用于到200 mm晶片的高产量工艺。

研发

三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

沉积系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。

 

 

2-modules RIE cluster for etching of aluminum pads16-ports cluster for industrial application2-modules cluster of ICP-RIE SI 500 and cryogenic etcher SI 500 C with vacuum loadlock6-ports cluster with two SI 500 RIE modules, cassette station, and vacuum loadlock for research and Low temperature plasma deposition cluster6-port cluster with ICP-module,ALD-module, and cassette stationPlasma Cluster Configuration with dual chamber architecture6-port cluster with ICPCVD-module, 2x ICP module, and 2 cassette stations

 

 

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